三好 正毅 | 山口大学工学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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三好 正毅
山口大学工学部電気電子工学科
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松尾 直人
兵庫県大
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松尾 直人
山口大学工学部
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松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
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浜田 弘喜
三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所
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三浦 隆司
山口大学工学部電気電子工学科
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浜田 弘喜
三洋電機(株)デジタルシステム研究所
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藤原 裕章
山口大学工学部電気電子工学科
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山内 純也
山口大学工学部電気電子工学科
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山内 純也
山口大
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綾 洋一郎
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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納田 朋幸
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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納田 朋幸
三洋電機
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北川 康範
山口大学工学部電気電子工学科
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河本 直哉
山口大学工学部
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北川 康範
山口大
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松尾 直人
山口大
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中田 真一
山口大学工学部電気電子工学科
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浜田 弘喜
三洋電機株式会社 先進太陽光発電開発センター
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松尾 直人
兵庫県立大学
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
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納田 朋幸
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
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河本 直哉
山口大学工学部電気電子工学科
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瀬里 泰洋
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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増田 淳
北陸先端大
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ファクルル アンワル
山口大学工学部
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アンワル ファクルル
山口大学工学部
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松尾 直人
山口大学工学部電気電子工学科
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河本 直哉
山口大学大学院理工学研究科
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衣笠 彰則
山口大学工学部
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小柳 剛
山口大学工学部
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河本 直哉
山口大 工
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AZIZ Fakhrul
山口大学工学部
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Anwar F
山口大学工学部
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浦上 有紀
山口大学工学部電気電子工学科
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藍原 大介
山口大学工学部電気電子工学科
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福岡 達夫
山口大学工学部電気電子工学科
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綾 洋一郎
三洋電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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Anwar Fakhrul
山口大学工学部電気電子工学科
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納田 朋幸
三洋電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
浜田 弘喜
三洋電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
綾 洋一郎
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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小柳 剛
山口大学工学部電気電子工学科
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
-
衣笠 彰則
山口大学工学部電気電子工学科
著作論文
- ELAポリシリコン薄膜の大粒径化 : 結晶成長と水素の関係(シリコン関連材料の作製と評価)
- 凹凸多結晶Si上の極薄酸化・窒化・酸化複合膜の低電圧領域での電気伝導に関する理論的考察
- WKB近似法による極薄SiO_2膜のトンネル電子の有効質量に関する解析
- 極薄SiO_2膜の低電圧領域における直接トンネル電流解析 : 多谷構造縮退と非弾性散乱の効果
- 極薄Si酸化膜の直接トンネル伝導の解析
- 極薄誘電体膜の低電圧領域における直接トンネル電流の理論検討
- Si(100),(111)表面への有機炭素吸着と自然酸化膜成長の関係
- 極薄誘電体膜の低電圧領域における直接トンネル電流近似関数
- 極薄誘電体膜の低電圧領域における直接トンネル電流近似関数
- 極薄酸化・窒化・酸化複合膜の低電圧領域における電気伝導機構のWKB近似による理論的解析
- 電界集中下における極薄酸化・窒化・酸化複合膜の電気伝導に関する量子力学的解析
- エキシマ・レーザ・アニールにより形成された低温プロセス多結晶Siのキャラクタリゼーション
- Siウエファ表面への有機炭素吸着と自然酸化膜形成
- エキシマ・レーザ・アニールにより形成した低温プロセス多結晶Si成長モデル : 転位論に基ずく検討
- Si共鳴トンネリングMOSトランジスタの特性計算 : 相互コンダクタンスとサブスレッショルド係数
- Si共鳴トンネルMOSトランジスタの理論的研究
- Si共鳴トンネルMOSトランジスタの理論的研究
- 極薄誘電体膜トンネル現象のMOSトランジスタへの応用
- 極薄誘電体膜トンネル現象のMOSトランジスタへの応用
- 多結晶Si薄膜の結晶欠陥と結晶粒径の関係