アンワル ファクルル | 山口大学工学部
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概要
関連著者
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浜田 弘喜
三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所
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ファクルル アンワル
山口大学工学部
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アンワル ファクルル
山口大学工学部
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松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
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AZIZ Fakhrul
山口大学工学部
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Anwar F
山口大学工学部
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河本 直哉
山口大学工学部
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松尾 直人
兵庫県大
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山野 耕治
三洋電機(株)ニューマテリアル研究所
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浜田 弘喜
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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長谷川 勲
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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河本 直哉
山口大学工学部電気電子工学科
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松尾 直人
山口大学工学部
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河本 直哉
山口大学大学院理工学研究科
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浜田 弘喜
三洋電機(株)デジタルシステム研究所
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河本 直哉
山口大 工
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長谷川 勲
三洋電機(株)マテリアル・デバイス研究所
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松尾 直人
山口大
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山野 耕治
三洋電機(株)マテリアル・デバイス研究所
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柴田 賢一
三洋電機(株)研究開発本部アドバンストエナジー研究所
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柴田 賢一
三洋電機(株)マテリアル・デバイス研究所
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柴田 賢一
三洋電機(株)
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柴田 賢一
三洋電機株式会社・機能材料研究所
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
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増田 淳
北陸先端大
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余頃 祐介
北陸先端科学技術大学院大学
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余頃 祐介
北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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納田 朋幸
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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納田 朋幸
三洋電機
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綾 洋一郎
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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納田 朋幸
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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三好 正毅
山口大学工学部電気電子工学科
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松尾 直人
山口大 工
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松屋 直人
山口大学工学部
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綾 洋一郎
三洋電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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Anwar Fakhrul
山口大学工学部電気電子工学科
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納田 朋幸
三洋電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
浜田 弘喜
三洋電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所
著作論文
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ・アニールによる多結晶シリコンの結晶成長 : 水素と基板熱伝導度が臨界エネルギー密度に与える影響を考慮して
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ・アニールによる多結晶シリコンの結晶成長 : 水素と基板熱伝導度が臨界エネルギー密度に与える影響を考慮して
- エキシマ・レーザ・アニールにより形成した低温プロセス多結晶Si成長モデル : 転位論に基ずく検討