小柳 剛 | 山口大学工学部
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概要
関連著者
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小柳 剛
山口大学工学部
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浅田 裕法
山大院理工
-
小柳 剛
山大院理工
-
松原 覚衛
山口東京理科大学;基礎工学部電子基礎工学科
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小柳 剛
山口大・工
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福間 康裕
山口県産技術センター
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小柳 剛
山口大院
-
小柳 剛
Dongguk Univ.
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小柳 剛
山口大工
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小柳 剛
山口大学;工学部電気電子工学科
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小柳 剛
山口大学
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浅田 裕法
山口大
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松原 覚衛
山口大学工学部
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長本 泰征
山口大工
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福間 康裕
山口大学
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浅田 裕法
山口大学
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藤森 淳
東大新領域
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山崎 二郎
九工大
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松原 覚衛
山口東京理科大学
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浅田 裕法
山口大 大学院理工学研究科
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竹澤 昌晃
九州工業大学
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竹澤 昌晃
九工大
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松尾 直人
山口大学工学部
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石井 啓之
東大理
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松尾 直人
山口大学工学部電気電子工学科
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鹿嶋 徹哉
山口大学工学部
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岡崎 浩三
東大理
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岸本 堅剛
山口大院
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岸本 堅剛
山口大学工学部
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松尾 直人
山口大 工
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衣笠 彰則
山口大学工学部
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吉村 知之
山口大学工学部
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松尾 直人
兵庫県立大学工学研究科
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西村 直人
山口大学理工学研究科
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福間 康裕
山口県産業技術センター
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西村 直人
山口大学大学院 理工学研究科
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衣笠 彰則
山口大学工学部電気電子工学科
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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山上 浩志
原子力機構放射光
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岡根 哲夫
原子力機構放射光
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藤森 伸一
原子力機構放射光
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竹田 幸治
原子力機構放射光
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斎藤 祐児
原子力機構放射光
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山崎 二郎
九州工業大学
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斉藤 祐児
原子力機構
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小林 正起
東大理
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田中 新
広大先端研
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斉藤 祐児
原研 SPring-8
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間宮 一敏
高エネ研
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岡本 淳
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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伊藤 真之
山口大
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竹田 幸治
原子力機構
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村上 崇
山口大学
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黄 鐘日
東大新領域
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寺井 恒太
原子力機構SPring-8
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岡根 哲夫
原子力機構
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岡林 潤
東大理
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間宮 一敏
原子力機構放射光
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田中 清尚
東大理
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藤森 伸一
原研放射光
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須崎 友文
東大理
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岡根 哲夫
原研放射光
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田中 清尚
大阪大理
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岸本 堅剛
山口大院理工
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斎藤 祐児
原子力機構
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間宮 一敏
原研放射光セ
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岡本 淳
原研放射光セ
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三好 正毅
山口大学工学部電気電子工学科
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藤森 淳
原研放射光
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須崎 友文
理研
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須崎 友文
Jstさきがけ
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藤井 隆満
(株)セントラル硝子
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藤原 裕章
山口大学工学部電気電子工学科
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田中 新
広大院先端物質
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阿武 宏明
山口東京理科大学;基礎工学部電子基礎工学科
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横沼 実雄
呉高専
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若月 政幸
山大工
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李 鎔勲
山口大学
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磯部 竜一
山口大学
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松尾 直人
兵庫県大
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Jeon H.C.
Dongguk Univ.
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Kang T.W.
Dongguk Univ.
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原田 寛
宇部興産(株)
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小柳 剛
山口大学工学部電気電子工学科
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李鎔 勲
山口大学大学院理工学研究科物質工学専攻
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弥永 大児
山口大
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坪内 隆弘
山口大
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安達 浩二
山口大学
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若月 政幸
山口大
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阿武 宏明
山口東理大
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松原 覚衛
山口東理大
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河村 卓
山口大
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長本 泰征
山口大学工学部
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早田 佳文
山口大
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山本 順也
山口大
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村田 将憲
山口大
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江尻 圭多
九州工業大学
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田中 克佳
山口大
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井 晴彦
山口大
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兵頭 康弘
山口大
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小田原 史武
山口大学大学院 理工学研究科
-
早田 佳文
山口大学大学院理工学研究科
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有福 達治
山口大学
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藤井 隆満
山口大学工学部
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諸藤 康治
山口大学工学部
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阿武 宏明
山口大学工学部電気電子工学科
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阿武 宏明
山口東京理科大学 基礎工学部 電子・情報工学科
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小田原 史武
山口大学
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小山 政洋
大学院電子工学
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江尻 圭多
九工大
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大山 隆治
山口大学工学部
-
小山 政洋
山口大学工学部
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山上 浩志
原子力機構
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原田 寛
宇部興産 (株)
-
間宮 一敏
原研放射光
-
岡本 淳
原研放射光
-
田中 新
広大院先端
-
平田 章
宇部興産 (株)
著作論文
- Heガスを用いたスパッタ法によるSrTiO_3薄膜の作製
- 凹凸多結晶Si上の極薄酸化・窒化・酸化複合膜の低電圧領域での電気伝導に関する理論的考察
- Heガスを用いたスパッタ法によるSrTiO_3薄膜の作製
- 一軸超高圧で作製したBi-Sb焼結体の熱電気的特性
- 25aSF-5 フィルドスクッテルダイト化合物MFe_4Sb_(M=La,Ce,Yb)の光電子分光
- 22aZG-6 スクッテルダイト化合物CoSb_3の光電子分光II
- 27pG-6 CoSb_3の光電子分光
- RFe_4Sb_(R=La, Ce, Yb)の光電子分光(スクッテルダイト化合物研究の現状と展望,研究報告)
- 25aXJ-6 GaN/GaMnN/GaN超構造の共鳴光電子分光(25aXJ 磁性半導体,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- スパッタリングにより成膜したTiAlN薄膜の結晶構造のAl濃度依存性
- スクッテルダイト構造をもつ(Pd, Co)Sb_3化合物の熱電気的特性
- PIES法により作製したZnSbセラミックスの静電気的特性
- Mn_M_XTe薄膜(M=Cr, Fe, Ni, Co)の熱電気的特性
- Cd_Mn_xTe薄膜のMn^3d光伝導スペクトル
- スクッテルダイト系化合物熱電材料
- アモルファス薄膜における磁壁ピンニング機構の解析
- マグネトロンスパッタ法によるMnドープCu_2O薄膜の作製
- ICB法により作製したGe_Mn_XTe薄膜の磁気特性
- 段差による磁性薄膜の磁壁ピンニング
- 強磁性半導体Ge_Mn_xTeの磁気抵抗効果
- 溝状段差による磁壁ピンニング特性の解析
- 膜厚変調による磁壁ピンニング特性の解析
- IV-VI族希薄磁性半導体Ge_Mn_xTeのキャリア誘起強磁性効果
- スパッタ法により作製したGe_Cr_xTe薄膜の磁気特性
- Ge_Mn_XTe薄膜のアモルファス-結晶相転移による強磁性構造の作製
- スパッタ法により作製したGe_Mn_xTe薄膜の磁気特性
- 反応性スパッタによる薄膜形成に及ぼすHe添加効果
- クラスターイオンビーム法によるせん亜鉛鉱型 MnTe 薄膜および Cd_Mn_xTe-MnTe 超格子薄膜の磁気光学特性
- ホイスラー合金PtMnSb薄膜の巨大Kerr効果
- クラスタイオンビーム法によるCd_Mn_xTe薄膜の磁気光学効果(固体の表面・界面における電子励起状態と緩和過程の研究,科研費研究会報告)
- A New Method for Preparation of TiAlN/Ti Films.