浅田 裕法 | 山口大

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概要

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関連著者

• 浅田 裕法

  山口大

• 浅田 裕法

  山口大 大学院理工学研究科

• 松山 公秀

  九大

• 浅田 裕法

  山大院理工

• 浅田 裕法

  九大

• 小柳 剛

  山大院理工

• 小柳 剛

  山口大学工学部

• 小柳 剛

  山口大・工

• 原田 直幸

  山口大

• 内藤 裕志

  山口大

• 原田 直幸

  山口大学工学部

• 原田 直之

  山口大学工学部

• 山崎 二郎

  九工大

• 何 継方

  山口大学工学部

• 原田 直幸

  山口大学

• 内藤 裕志

  山口大学工学部

• 何 継方

  山口大

• 石橋 隆幸

  長岡技科大

• 竹澤 昌晃

  九工大

• 細川 育宏

  九大

• 竹澤 昌晃

  九州工業大学

• 福間 康裕

  山口県産技術センター

• 松村 直也

  山口大

• 松山 公秀

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 千田 功

  九州大

• 浅田 裕法

  九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻

• 千田 功

  九大院システム情報

• 中村 冬樹

  九州大学

• 石橋 隆幸

  長岡技術科学大学、物質・材料系

• 森本 裕治

  九州工業大学

• 森本 祐治

  九州工業大学

• 谷口 研二

  九大

• 松山 公秀

  システム情報科学研究科 九大

• 浅田 裕法

  システム情報科学研究科 九大

• 太屋岡 篤憲

  九工大

• 福間 康裕

  山口県産業技術センター

• 澤本 泰明

  九大

• 千田 功

  九大

• 浅田 裕法

  九州大学 システム情報科学研究科

• 池田 将一郎

  九州大学 システム情報科学研究科

• 松山 公秀

  九州大学大学院 システム情報科学研究院

• 山崎 二郎

  九州工業大学

• 伊藤 真之

  山口大

• 本田 崇

  九工大

• 本田 崇

  九州工業大学

• 萩原 雅之

  山口大

• 松山 公秀

  九州大学

• 本田 崇

  九州工業大学電気工学科

• 鈴木 英世

  九工大

• 能崎 幸雄

  九大院シス情

• 森本 祐治

  九工大

• 中村 冬樹

  九大

• 中村 冬樹

  システム情報科学研究科 九大

• 谷口 研二

  システム情報科学研究科 九大

• 鈴木 英世

  九州工業大学

• 太屋岡 篤憲

  九州工業大学

• 太屋岡 恵里子

  九州工業大学

• 太屋岡 恵里子

  九工大

• 早田 佳文

  山口大

• 山本 順也

  山口大

• 村田 将憲

  山口大

• 福間 康裕

  山口大学

• 江尻 圭多

  九州工業大学

• 田中 克佳

  山口大

• 井 晴彦

  山口大

• 兵頭 康弘

  山口大

• 早田 佳文

  山口大学大学院理工学研究科

• 浦郷 隆

  九工大

• 西畑 勝則

  九大

• 松山 公秀

  九州大学 システム情報科学研究科

• 細川 育宏

  九州大学 システム情報科学研究科

• 中村 冬樹

  九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻

• 佐伯 考央

  システム情報科学研究科 九大

• 澤本 泰明

  システム情報科学研究科 九大

• 佐藤 真一郎

  九大

• 佐伯 孝央

  九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻

• 松山 公秀

  九大 工

• 池田 将一郎

  九大 工

• 浅田 裕法

  九大 工

• 千田 功

  九大 工

• NANJO Yuki

  Hoechst Research and Technology Japan Ltd.

• 江尻 圭多

  九工大

• 中村 冬樹[他]

  九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻

• 佐伯 孝央[他]

  九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻

• 能崎 幸雄

  九大システム情報

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著作論文

• 非対称な人工ピンを導入したNb膜のビーンモデルを用いたJ_c分布の評価
• MO観察による非対称な人工ピンを導入した超伝導Nb膜の磁束ピンニング特性の評価
• 溝状人工ピンニングセンターを導入した超伝導Nb膜における磁束密度分布の観察
• 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜のMO観察
• 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討(3) : ステップ状人工ピンの設計・試作
• 極微軟磁性薄膜パタンにおける磁化過程解析
• 局所分子磁界による磁性層間結合のモデリング
• 陽極酸化法による高アスペクト比磁気繊毛の作製とその応用(II)
• アモルファス薄膜における磁壁ピンニング機構の解析
• マグネトロンスパッタ法によるMnドープCu_2O薄膜の作製
• 強磁性半導体Ge_Mn_xTeの磁気抵抗効果
• 溝状段差による磁壁ピンニング特性の解析
• 膜厚変調による磁壁ピンニング特性の解析
• スパッタ法により作製したGe_Mn_xTe薄膜の磁気特性
• 陽極酸化法による高アスペクト比針状磁性体の作製
• 磁区を情報担体とするマルチビットMRAMメモリセルの検討
• 強磁性体/酸化物半導体積層膜のCPP磁気抵抗効果
• サブミクロンNiFe/Co/Cu/Co細線における磁化反転特性
• スピンバルブ細線における局所反転磁区形成
• パルス電流によるスピンバルブメモリの機能動作
• ナノ構造スピンバルブ細線の磁気抵抗特性
• 磁性体RAMセルにおける書き込み動特性の数値解析
• 強磁性体-半導体積層膜を用いたCPP-スピンバルブ素子の作製
• 誘導磁気異方性を有するCo薄膜パタンにおけるMR特性
• 磁性金属/半導体積層膜のスピン依存電気伝導
• 磁性体RAMセルにおける書き込み動作の数値解析
• NiFe/Cu/Co3層膜ストリップパタンの磁気抵抗効果
• 段差形状による磁性薄膜の磁壁ピンニング

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