原田 直幸 | 山口大
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概要
関連著者
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原田 直幸
山口大
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内藤 裕志
山口大
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原田 直幸
山口大学工学部
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原田 直之
山口大学工学部
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原田 直幸
山口大学
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内藤 裕志
山口大学工学部
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何 継方
山口大学工学部
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何 継方
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山大院理工
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石橋 隆幸
長岡技科大
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松村 直也
山口大
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山口大
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石橋 隆幸
長岡技術科学大学、物質・材料系
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古瀬 充穂
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古瀬 充穂
(独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門
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濱島 高太郎
東北大学大学院工学研究科
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津田 理
東北大学大学院工学研究科
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古瀬 充穂
産業総合技術研究所
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伊藤 俊
山口大
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植田 清隆
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淵野 修一郎
産総研
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野口 聡
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植田 清隆
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安田 俊朗
山口大
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浜島 高太郎
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濱島 高太郎
東北大学 大学院 工学研究科
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津田 理
東北大学
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Noguchi So
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
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濱島 高太郎
東北大学
著作論文
- YBCOテープ線材を用いた直流リアクトル用トロイダルコイルの製作
- 非対称な人工ピンを導入したNb膜のビーンモデルを用いたJ_c分布の評価
- MO観察による非対称な人工ピンを導入した超伝導Nb膜の磁束ピンニング特性の評価
- 溝状人工ピンニングセンターを導入した超伝導Nb膜における磁束密度分布の観察
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜のMO観察
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討(3) : ステップ状人工ピンの設計・試作
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討(2)
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討
- 微細加工により導入した溝状人工ピンニングセンターの磁化緩和特性II