何 継方 | 山口大学工学部
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概要
関連著者
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原田 直幸
山口大学工学部
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原田 直之
山口大学工学部
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何 継方
山口大学工学部
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原田 直幸
山口大学
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何 継方
山口大
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原田 直幸
山口大
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内藤 裕志
山口大
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内藤 裕志
山口大学工学部
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浅田 裕法
山大院理工
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浅田 裕法
山口大
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石橋 隆幸
長岡技科大
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松村 直也
山口大
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萩原 雅之
山口大
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石橋 隆幸
長岡技術科学大学、物質・材料系
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津田 理
東北大学大学院工学研究科
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栗山 透
(株)東芝
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浜島 高太郎
山口大学工学部
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津田 理
山口大学工学部
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矢沢 孝
(株)東芝
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矢澤 孝
(株)東芝 電力・社会システム技術開発センター
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矢澤 孝
東芝
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矢澤 孝
(株)東芝
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栗山 透
ティーエム・ティーアンドディー
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安田 俊朗
山口大
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矢沢 孝
東芝
著作論文
- 多重HTSテープ導体の電流分布に関する実験
- 非対称な人工ピンを導入したNb膜のビーンモデルを用いたJ_c分布の評価
- MO観察による非対称な人工ピンを導入した超伝導Nb膜の磁束ピンニング特性の評価
- 溝状人工ピンニングセンターを導入した超伝導Nb膜における磁束密度分布の観察
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜のMO観察
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討(3) : ステップ状人工ピンの設計・試作
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討(2)
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討
- 微細加工により導入した溝状人工ピンニングセンターの磁化緩和特性II
- 多重高温超電導テープ導体の電流分布実験