溝状人工ピンニングセンターを導入した超伝導Nb膜における磁束密度分布の観察
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概要
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- 2008-05-26
著者
-
浅田 裕法
山大院理工
-
原田 直幸
山口大
-
内藤 裕志
山口大
-
原田 直幸
山口大学工学部
-
原田 直之
山口大学工学部
-
石橋 隆幸
長岡技科大
-
何 継方
山口大学工学部
-
原田 直幸
山口大学
-
浅田 裕法
山口大
-
内藤 裕志
山口大学工学部
-
何 継方
山口大
-
石橋 隆幸
長岡技術科学大学、物質・材料系
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