NANJO Yuki | Hoechst Research and Technology Japan Ltd.
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概要
関連著者
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NANJO Yuki
Hoechst Research and Technology Japan Ltd.
-
松山 公秀
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
能崎 幸雄
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
松山 公秀
九州大学大学院 システム情報科学研究院
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能崎 幸雄
九州大学
-
松山 公秀
九州大学
-
能崎 幸雄
慶応義塾大学 理工学部
-
田中 輝光
九州大学大学院 システム情報科学研究院
-
田中 輝光
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
大谷 義近
東北大学大学院工学研究科
-
能崎 幸雄
慶大理工
-
成田 直幸
九州大学大学院システム情報科学研究院
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宮島 英紀
慶大理工
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本橋 一成
慶大・理工
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能崎 幸雄
慶大・理工
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成田 直幸
九州大学大学院システム情報科学府
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能崎 幸雄
慶應義塾大学
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宮島 英紀
慶大・理工
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Pannetier B.
CNRS CRTBT
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Runge K
慶應義塾大学理工学部
-
Pannertier B
Cnrs Crtbt
-
能崎 幸雄
慶應義塾大学物理学科
-
Pannetier B.
Crtbt
-
本橋 一成
慶大理工
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増田 宏
東英工業(株)
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眞砂 卓史
JRCAT
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松尾 健一
九州大学
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宮島 英紀
慶大 理工
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加藤 歩
九州大学大学院システム情報科学研究院
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真砂 卓史
慶應義塾大学理工学部
-
日向 浩幸
慶大理工
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Kudo T
Clariant Japan K.k. Shizuoka Jpn
-
宮島 英紀
慶應義塾大学
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加藤 歩
香川大学呼吸器・乳腺内分泌外科
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小野 輝男
慶大理工
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石川 雄一
同和鉱業中研
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宮島 英紀
慶應義塾大学理工学部物理学科
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大谷 義近
慶大理工
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成田 直幸
九州大学
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立石 健太郎
九州大学システム情報科学研究院 電子デバイス工学部門
-
大田 正直
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
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秦 飛
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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吉澤 秀二
同和鉱業(株)中研
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能崎 幸雄
九大院シス情
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大谷 義近
東北大工
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Kudo T
Japan Atomic Energy Res. Inst. Ibaraki
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Kudo Takanori
Az Electronic Materials Nj
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Pannetier B.
CRTBT-CNRS
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小林 心
慶大・理工
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KUDO Takanori
Clariant Japan K. K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department
-
YAMAGUCHI Hidemasa
Hoechst Research and Technology Japan Ltd.
-
KANG Wen-Bing
Clariant Japan K. K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department
-
PAWLOWSKI Georg
Clariant Japan K. K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department
-
大谷 義近
東北大 工
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小林 尚史
慶應義塾大学理工学部
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山口 明啓
慶應義塾大学理工学部
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日向 裕幸
慶大理工
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木下 岳司
慶大理工
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金井 靖
新潟工科大学情報電子工学科教授
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外村 彰
日立基礎研
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金井 靖
新潟工科大学工学部
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松田 強
日立基礎研究
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松山 公秀
九大
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田中 輝光
九州大学
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加藤 歩
九州大学工学部
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野田 憲司
九州大学工学部
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白石 壮馬
九州大学システム情報科学研究院 電子デバイス工学部門
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能崎 幸雄
九州大学システム情報科学研究院 電子デバイス工学部門
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松山 公秀
九州大学システム情報科学研究院 電子デバイス工学部門
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千田 功
九州大
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Givord D.
Lab. Louis Neel Cnrs
-
Givord D.
Lab.louis Neel Cnrs
-
吉澤 秀二
同和鉱業中研
-
外村 彰
日立製作所基礎研究所
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三角 忠司
九州大学
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松山 公秀
九大院シス情
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松田 強
理研:日立基礎研
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外村 彰
理研:日立基礎研
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Runge K.
慶大理工
-
Pannetier B
CRTBT, CNRS
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Nozieres J.P.
Lab. Louis Neel
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大谷 義近
東北大学工学部材料物性学科
-
千田 功
九大院システム情報
-
Runge K
慶大理工
-
Nozieres J.P
Lab.Louis Neel, CNRS
-
Ghidini M
Lab.Louis Neel, CNRS
-
Ghidini M
Lab.louis Neel Cnrs
-
Nozieres J.p
Lab.louis Neel Cnrs
-
Ono T
Department Of Physics Keio University
-
Yamaguchi H
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Osaka Jpn
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YAMAGUCHI Yuko
Clariant Japan K. K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department
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小野 輝男
慶大・理工
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津山 祥紀
慶大・理工
-
木下 岳司
慶大・理工
-
上田 浩史
慶應義塾大学理工学部
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大石 秀俊
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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金井 靖
新潟工科大学
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大石 秀俊
九州大学
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白石 壮馬
九州大学大学院
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加藤 歩
九州大学大学院システム情報科学府
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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新庄 輝也
国際高等研
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新庄 輝也
京大化研
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新庄 輝也
阪大院基礎工
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山口 明啓
慶應義塾大学理工学部物理学科
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巨海 玄道
北大 理
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巨海 玄道
九大院理
-
巨海 玄道
九州大学理学部
-
巨海 玄道
広島大理
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小野 輝男
阪大院基礎工
-
浅田 裕法
山口大
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礒脇 洋介
九州大学
-
湯浅 新治
慶大・理工
-
大谷 義近
慶大・理工
-
松尾 健一
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
-
東原 周平
九大院理
-
吉澤 秀二
同和鉱業(株)中央研究所
-
津山 祥紀
慶大理工
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立石 健太郎
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
-
古賀 雅士
九州大学システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
-
プルナマ ブディ
九州大学システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
-
末永 純一
九州大
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古賀 信之
北九州高専
-
張 明
九州大学
-
寺田 久範
九州大学
-
張 明
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
-
Givord D
Lab. Louis Neel Grenoble Fra
-
川野 敏志
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
廣畑 貴文
CREST-JST
-
小野 輝男
慶應義塾大学
-
湯浅 新治
慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所
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菊池 順一
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
小松 伸也
九州大学
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廣畑 貴文
理研フロンティア
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石川 雄一
同和鉱業(株)中研
-
宮島 英紀
慶大理工物理
-
日向 裕幸
慶大・理工
-
ONO Teruo
Faculty of Science and Technology, Keio University
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Miyajima Hideki
Department Of Physics Faculty Of Science And Technology Keio University
-
大谷 義近
慶大理工物理
-
能崎 幸雄
慶大理工物理
-
Runge K.
慶大理工物理
-
眞砂 卓史
慶大理工
-
Pugnat P
Lab. Louis Neel, CNRS
-
Fillion G
Lab. Louis Neel, CNRS
-
Ghidni M.
Lab.Louis Neel, CNRS
-
Nozieres J.P.
Lab.Louis Neel, CNRS
-
Shibuya T
Univ. Tokyo Tokyo Jpn
-
三角 忠司
九州大学大学院システム情報科学科電子デバイス工学専攻
-
湯浅 裕美
慶大理工
-
湯浅 裕美
慶大・理工
-
廣畑 貴文
慶大・理工
-
小松 伸也
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
-
眞砂 卓史
慶應義塾大学理工学部物理学科
-
小林 心
慶應義塾大学理工学部
-
小林 心
慶大理工
-
Pannertier B
Crtbt Cnrs
-
細川 育宏
九大
-
津山 祥紀
慶應義塾大学理工学部
-
本橋 一成
慶應義塾大学理工学部
-
RUNGE K.
慶應義塾大学理工学部
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真砂 卓史
慶大
-
眞砂 卓史
慶大 理工
-
檜上 竜也
慶大・理工
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石井 俊輔
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
Pugnat P
Lab. Louis Neel Cnrs
-
Fillion G
Lab. Louis Neel Cnrs
-
Ono Teruo
Department Of Biochemistry Niigata University School Of Medicine
-
Pawlowski G
Clariant Japan K. K. Business Unit Electronic Materials Technical And Production Department
-
NOZAKI Yuko
Clariant Japan K.K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department
-
康 文兵
Clariant Japan K. K. Business Unit Electronic Materials Technical And Production Department
-
浅田 裕法
山口大 大学院理工学研究科
-
能崎 幸雄
慶大理工:rresto Jst
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巨海 玄道
久留米工業大学教育創造工学科
-
能崎 幸雄
慶應義塾大学理工学部
-
中村 冬樹
九州大学
-
NOZAKI Yukio
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
-
MATSUYAMA Kimihide
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
-
MIYAJIMA Hideki
Faculty of Science and Technology, Keio University
-
Nozaki Yukio
Department of Electronic Device Engineering, Kyushu University
-
Matsuyama Kimihide
Department of Electronic Device Engineering, Kyushu University
-
Yamaguchi H
Hoechst Research And Technology Japan Ltd.
-
広畑 貴文
Jst‐crest
-
Matsuyama Kimihide
Department Of Electrical Engineering Kyushu University
-
永安 俊介
九州大学
-
中村 起敬
九州大学
-
前田 佳宏
九州大学
-
神田 聡太郎
東大理
-
小林 尚史
慶大理工
-
山口 明啓
産総研スピントロニクスセンター
-
細川 育広
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
-
風呂本 至時
九州大学大学院システム情報科学府
-
菊池 順一[他]
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
Kang Wen-Bing
Clariant Japan K.K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department, 3810, Chihama, Daitocho, Ogasagun, Shizuoka 437-1496, Japan
-
石川 雄一
同和鉱業(株) 中央研究所
-
Nanjo Yuki
Hoechst Research and Technology Japan Ltd., 1-3-2, Minamidai, Kawagoe, Saitama 350-1165, Japan
-
吉澤 秀二
同和鉱業(株) 中央研究所
-
Pawlowski Georg
Clariant Japan K.K., Business Unit Electronic Materials, Technical and Production Department, 3810, Chihama, Daitocho, Ogasagun, Shizuoka 437-1496, Japan
-
小松 伸也[他]
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
-
Yamaguchi Hidemasa
Hoechst Research and Technology Japan Ltd., 1-3-2, Minamidai, Kawagoe, Saitama 350-1165, Japan
著作論文
- マイクロコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト記録実験(固体メモリおよび一般)
- マイクロコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト記録実験(固体メモリ及び一般)
- ベクトルネットワークアナライザFMR分光法によるNiFe薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転検出
- TbFe/CoFe二層膜パタンの熱アシスト磁化反転特性
- 交換結合ナノピラーにおけるマイクロ波アシスト磁化反転挙動の軟磁性層厚依存性(固体メモリおよび一般)
- マイクロ波アシスト垂直磁気記録における記録トラック幅のオシレーション周波数依存性(固体メモリおよび一般)
- 交換結合ナノピラーにおけるマイクロ波アシスト磁化反転挙動の軟磁性層厚依存性(固体メモリ及び一般)
- マイクロ波アシスト垂直磁気記録における記録トラック幅のオシレーション周波数依存性(固体メモリ及び一般)
- サブミクロン幅NiFe薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転
- CS-8-5 コプレーナ線路上に作製した強磁性薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転(CS-8.次世代情報ストレージ技術の動向,シンポジウムセッション)
- 強磁性薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転実験
- 垂直磁化ナノドットの熱アシスト磁化反転シミュレーション
- 磁性多層膜装荷LC共振器による磁化率変調の高感度検出
- 微細加工領域での磁性物理
- 遷移金属酸化物を用いたトンネル磁気抵抗素子の作製と特性評価
- Co_Fe_スパッタ薄膜における Oblique-Incidence 効果
- クロスコンタクト構造NiFe/Cu多層膜のCPP-GMR特性
- セル間の静磁気的相互作用を考慮したMRAM電流一致選択動作の計算機シミュレーション
- スパッタ Fe_3O_4薄膜における電圧誘起スイッチング
- サブミクロンスケールNiFe/Cu多層膜パターンにおけるフリンジ磁界結合の膜厚依存性
- 21pPSA-8 Fe 及び Co をベースとする金属人工格子の巨大磁気抵抗効果に及ぼす圧力効果
- グラニュラー媒体への狭トラックマイクロ波アシスト磁気記録シミュレーション(ハードディスクドライブ+一般)
- スパッタFe_3O_4薄膜の磁気および電気伝導特性
- ミクロンサイズ Fe-Ni2次元矩形微粒子格子の動的磁区観察と局所磁化分布解析
- 29a-PS-7 Fe-Ni2次元矩形微粒子格子の磁区構造と磁化過程
- 31a-L-6 強磁性・超伝導複合構造膜における磁束量子の侵入過程
- 13p-D-16 強磁性・超伝導複合構造膜の磁気・超伝導特性III
- GMR効果を用いた微小磁性体の磁化反転過程の測定
- サブミクロンレリーフ構造化したGMR膜の磁気抵抗測定
- 28a-PS-122 磁気力顕微鏡による強磁性微結晶の磁区構造観察
- マイクロ波アシスト磁気記録における記録ビットパターンの媒体飽和磁化依存性
- 極微磁性細線のメゾスコピック磁化反転過程
- ハード磁性層を縦バイアスに用いた高温動作GMRセンサ
- サブμm幅磁性多層膜細線の微小磁界変化に対する磁気抵抗特性
- サブμm幅磁性多層膜細線の磁気抵抗特性
- サブμm幅磁性多層膜細線の磁気抵抗特性
- パルス磁場を用いたBi系酸化物超伝導体における磁束の粘性力の測定 (磁性体物理)
- 29p-PSB-19 Bi系、Y系酸化物超伝導体における磁束の侵入速度
- Bi系酸化物超伝導体における磁束の動特性
- 磁区を情報担体とするマルチビットMRAMメモリセルの検討
- パルス導体電流による擬スピンバルブMRAMセルのスピン方位制御
- 超伝導体と軟磁性体の複合体の磁化特性
- 試料共振型磁力計による微小磁気モーメント測定
- 超伝導体・軟磁性体との複合体の磁化特性
- 試料共振型磁力計による微小磁化測定
- 31a-R-3 強磁性・超伝導複合構造膜における磁束量子の侵入過程 III : 超伝導Nb薄膜中の侵入磁束分布の再構成
- 2p-YE-11 強磁性・超伝導複合構造膜における磁束量子の侵入過程II
- レリーフ構造化したサブミクロンスケールGMR膜パタンの磁化反転特性
- Fabrication Process of Color Filters Using Pigmented Photoresists
- Polymer Optimization of Pigmented Photoresists for Color Filter Production
- 機械的共振を利用した微小磁気モーメントの測定
- 試料共振型磁力計による微小磁気モーメント測定
- Pigmented Photoresist for Black Matrix
- Pigmented Photoresists for Color Filters
- 30a-PS-15 強磁性体・超伝導体複合構造膜の磁気特性III
- 6a-PS-121 Si基板上に格子配列させた強磁性矩形粒子の磁気特性 I
- 5p-PSB-56 Fe/Si/Nb複合構造膜の磁気特性II
- 28a-PS-14 人工配列させたミクロンサイズ強磁性Co細線の磁気特性II : 磁場の空間分布
- 28a-PS-13 人工配列させたミクロンサイズ強磁性Co細線の磁気特性III : 磁化過程
- 人工配列させたミクロンサイズ強磁性Co細線の磁気特性
- 試料共振型高感度磁力計
- Micromagnetic Structure Analysis of Head-on-Head-Type 180℃ Domain Wall in Submicron Size Co Wires
- Magnetic domain structure of micron-size Co line arrays
- 微細加工したコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト磁化反転実験(光記録,一般)
- Gbit級MRAM機能動作の計算機シミュレーション(特別ワークショップ : スピンエレクトロニクスとその応用)
- 磁性薄膜細線における磁化反転過程の解析
- 微細加工したコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト磁化反転実験(光記録,一般)
- 微細磁気構造の制御とデバイス応用
- サブミクロンCo_Pt_矩形微粒子の熱擾乱に対する磁化安定性
- クロスコンタクト構造CPP-GMR素子の磁気抵抗特性
- サブミクロンCPP-GMR素子における層間静磁気相互作用
- 矩形MRAM記憶セルの動作スケーリング
- TiO_X/(Co,CoPt)多層膜におけるスピン依存型CPP伝導特性
- 26pPSA-36 強磁性クラスタ伝導系の磁気抵抗特性
- 21aPS-13 垂直磁化膜の強磁性共鳴における非線形効果(21aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 微細磁気構造の制御とデバイス応用 (公益社団法人 日本磁気学会 第178回研究会資料 磁気の歴史と新展開)
- パルス電流磁界による磁性多層膜細線のサブμm^^2磁区制御
- Fabrication Process of Color Filters Using Pigmented Photoresists
- 補助電流磁界を用いたMRAMの選択書き込み動作実験
- GMR,TMRの磁性ランダムアクセスメモリへの応用
- MRAM選択書き込み基本動作実験
- サブミクロンサイズ強磁性細線における180°対向磁壁の磁気構造
- 28a-PS-107 サブミクロンサイズ強磁性Co細線中の対向磁壁の磁気構造解析
- ミクロサイズ強磁性細線における180°対向磁壁の磁気構造
- マイクロ波アシスト磁化反転の周波数選択性を利用した多値記録に関する基礎検討(ハードディスクドライブ,一般)