クラスタイオンビーム法によるCd_<1-x>Mn_xTe薄膜の磁気光学効果(固体の表面・界面における電子励起状態と緩和過程の研究,科研費研究会報告)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
この論文は国立情報学研究所の電子図書館事業により電子化されました。
- 物性研究刊行会の論文
- 1988-04-20
著者
関連論文
- 反応性スパッタによる TiO_2 ルチル膜の低温成長
- Heガスを用いたスパッタ法によるSrTiO_3薄膜の作製
- 凹凸多結晶Si上の極薄酸化・窒化・酸化複合膜の低電圧領域での電気伝導に関する理論的考察
- Heガスを用いたスパッタ法によるSrTiO_3薄膜の作製
- 30a-N-15 ICB法によるCd_Mn_xTe多重量子井戸構造の磁気光学特性
- 27a-ZH-13 閃亜鉛鉱型MnTeの光学スペクトル
- 27a-ZH-12 ICB法によるCd_Mn_xTe人工格子薄膜の作製と磁気光学効果
- CoSb_3系化合物の電子構造とその熱電気的性質
- Mn_M_xTe薄膜(M=Cr, Fe, Co)の熱電気的特性
- 一軸超高圧で作製したBi-Sb焼結体の熱電気的特性
- 25aSF-5 フィルドスクッテルダイト化合物MFe_4Sb_(M=La,Ce,Yb)の光電子分光
- 22aZG-6 スクッテルダイト化合物CoSb_3の光電子分光II
- 27pG-6 CoSb_3の光電子分光
- PtMnSbホイスラー合金多層構造薄膜の磁気光学特性
- RFe_4Sb_(R=La, Ce, Yb)の光電子分光(スクッテルダイト化合物研究の現状と展望,研究報告)
- 25aXJ-6 GaN/GaMnN/GaN超構造の共鳴光電子分光(25aXJ 磁性半導体,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- ガスアトマイズ粉末の焼結におけるCeFe_3CoSb_ 熱電材料の生成
- ガス噴霧法により得られたCoSb_3系熱電材料の焼結と熱電特性
- スパッタリングにより成膜したTiAlN薄膜の結晶構造のAl濃度依存性
- スクッテルダイト構造をもつ(Pd, Co)Sb_3化合物の熱電気的特性
- PIES法により作製したZnSbセラミックスの静電気的特性
- プラズマプロセス技術による熱電変換材料の微細構造制御 (傾斜構造形成による高効率エネルギ-変換)
- 30a-Z-8 Mn_Cr_xTe(0≦x≦0.06)薄膜の電子輸送現象
- Mn_M_XTe薄膜(M=Cr, Fe, Ni, Co)の熱電気的特性
- Cd_Mn_xTe薄膜のMn^3d光伝導スペクトル
- 31a-YP-9 Cd_Mn_xTe(0≤x≤1)薄膜の電子構造と光学スペクトル
- 5p-F-15 Mn_Cr_xTe薄膜(0≦x
- スクッテルダイト系化合物熱電材料
- アモルファス薄膜における磁壁ピンニング機構の解析
- マグネトロンスパッタ法によるMnドープCu_2O薄膜の作製
- ICB法により作製したGe_Mn_XTe薄膜の磁気特性
- 段差による磁性薄膜の磁壁ピンニング
- 強磁性半導体Ge_Mn_xTeの磁気抵抗効果
- 溝状段差による磁壁ピンニング特性の解析
- 膜厚変調による磁壁ピンニング特性の解析
- IV-VI族希薄磁性半導体Ge_Mn_xTeのキャリア誘起強磁性効果
- スパッタ法により作製したGe_Cr_xTe薄膜の磁気特性
- Ge_Mn_XTe薄膜のアモルファス-結晶相転移による強磁性構造の作製
- スパッタ法により作製したGe_Mn_xTe薄膜の磁気特性
- 5p-F-14 Cd_Mn_xTe(0≤x≤1)薄膜の光電子スペクトル
- Cd1-xMnxTe半磁性半導体の超格子及び微粒子ド-プガラス薄膜を用いた光機能素子の開発研究
- 14a-DE-14 閃亜鉛鉱型MnTe薄膜の光伝導特性
- 14a-DE-1 Cd_Mn_xTe多重量子井戸構造の磁気光学効果
- 反応性スパッタによる薄膜形成に及ぼすHe添加効果
- クラスターイオンビーム法によるせん亜鉛鉱型 MnTe 薄膜および Cd_Mn_xTe-MnTe 超格子薄膜の磁気光学特性
- II. 材料・プロセッシング材料
- Bi-Sr-Ca-Cu-O 系セラミックスの超伝導特性に及ぼす Li 添加効果
- クラスタ-イオンビ-ム法による薄膜形成と結晶性におよぼすイオンの効果 (薄膜の形成と構造) -- (無機薄膜)
- 熱電変換による自動車エンジンの排熱回収
- CoSb_3の電子構造と熱電気的性質に及ぼすドーピング効果
- 不純物を添加した PtMnSb 薄膜の磁気光学特性
- ECR プラズマによる Si の陽極酸化
- 4)ホイスラー合金PtMnSb薄膜の巨大Kerr効果(録画研究会(第72回))
- ホイスラー合金PtMnSb薄膜の巨大Kerr効果
- クラスタイオンビーム (ICB) 法により作製した Cd_Mn_xTe 薄膜の磁気光学的特性
- プラズマ・イオンプロセス技術と新素材--新しいFeSi2系非晶質合金(武井記念講演会シリ-ズ)
- セラミックスの評価法-3-(18)熱電半導体の特性測定(セラミックス基礎工学講座)
- クラスタイオンビーム法によるCd_Mn_xTe薄膜の磁気光学効果(固体の表面・界面における電子励起状態と緩和過程の研究,科研費研究会報告)
- A New Method for Preparation of TiAlN/Ti Films.