山内 純也 | 山口大学工学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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山内 純也
山口大学工学部電気電子工学科
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松尾 直人
兵庫県大
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山内 純也
山口大
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松尾 直人
山口大学工学部
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北川 康範
山口大学工学部電気電子工学科
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北川 康範
山口大
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三好 正毅
山口大学工学部電気電子工学科
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松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
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三浦 隆司
山口大学工学部電気電子工学科
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松尾 直人
山口大
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浜田 弘喜
三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所
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松尾 直人
山口大工
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浜田 弘喜
三洋電機(株)デジタルシステム研究所
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松尾 直人
兵庫県立大学工学研究科
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高見 義則
山口大学工学部電気電子工学科
著作論文
- WKB近似法による極薄SiO_2膜のトンネル電子の有効質量に関する解析
- 極薄SiO_2膜の低電圧領域における直接トンネル電流解析 : 多谷構造縮退と非弾性散乱の効果
- 極薄Si酸化膜の直接トンネル伝導の解析
- Si共鳴トンネリングMOSトランジスタの特性計算 : 相互コンダクタンスとサブスレッショルド係数
- p-Si(100)上に形成された極薄SiO_2膜の直接トンネル電流のWKB近似に基づく解析
- p-Si(100)上に形成された極薄SiO_2膜の直接トンネル電流(半導体Si及び関連電子材料評価)