レーザ・プラズマ軟X線照射がエキシマ・レーザによるa-Si膜の結晶化に与える効果(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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レーザ・プラズマ軟X線(Laser Plasma Soft X-ray: LPX)照射、続いでエネルギー密度が40〜60mJ/cm^2でのエキシマ・レーザ・アニール(Excimer Laser Annealing: ELA)によるa-Si薄膜の結晶化について研究を行った。LPXを前処理として照射したのち、エネルギー密度が50-60mJ/cm^2のELAによるa-Si膜の結晶化においては、poly-Si結晶化率は75-85%であった。更に、前処理として電気炉を使用した実験結果と比較して、この現象がLPX照射による温度上昇に拠らないという事を示し、その機構に関しても若干議論する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-12-07
著者
-
宮本 修治
兵庫県立大高度研
-
望月 孝晏
兵庫県立大高度研
-
天野 壮
兵庫県立大高度研
-
宮本 修治
阪大レーザ研
-
高梨 泰幸
兵庫県立大学
-
松尾 直人
兵庫県立大学
-
上拾石 和也
兵庫県立大学
-
部家 彰
兵庫県立大学物質系
-
松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
高梨 泰幸
兵庫県立大学大学院物質系工学専攻
-
松尾 直人
兵庫県立大学工学研究科
-
宮本 修治
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
-
部家 彰
兵庫県立大学工学研究科
-
宮本 修治
兵庫県立大学
-
天野 壮
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
部家 彰
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
望月 孝晏
兵庫県立大
-
宮本 修治
兵庫県立大学高度産業技術研究所
-
部家 彰
兵庫県立大学大学院
-
部家 彰
兵庫県立大学 大学院工学研究科
-
宮本 修治
兵庫県立大
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