部家 彰 | 兵庫県立大学工学研究科

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• 兵庫県立大学工学研究科の論文著者

関連著者

• 部家 彰

  兵庫県立大学工学研究科

• 松尾 直人

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 松尾 直人

  兵庫県立大学

• 部家 彰

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 部家 彰

  兵庫県立大学大学院

• 部家 彰

  兵庫県立大学物質系

• 松尾 直人

  兵庫県立大学工学研究科

• 部家 彰

  石川県工試

• 部家 彰

  兵庫県立大学 大学院工学研究科

• 松尾 直人

  兵庫県立大学工学部

• 松尾 直人

  山口大学工学部

• 松尾 直人

  山口大 工

• 河本 直哉

  山口大学大学院理工学研究科

• 南川 俊治

  石川県工業試験場

• 河本 直哉

  山口大学工学部電気電子工学科

• 南川 俊治

  石川県工試

• 河本 直哉

  山口大 工

• 松尾 直人

  山口大

• 河本 直哉

  山口大学工学部

• 松村 英樹

  北陸先端科学技術大学院大学

• 増田 淳

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所

• 梅本 宏信

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 松村 英樹

  北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科

• 仁木 敏一

  (株)石川製作所

• 増田 淳

  北陸先端大

• 望月 孝晏

  兵庫県立大高度研

• 芹川 正

  大阪大学接合科学研究所

• 天野 壮

  兵庫県立大高度研

• 南 茂平

  (株)石川製作所

• 高梨 泰幸

  兵庫県立大学大学院物質系工学専攻

• 長谷川 裕師

  兵庫県立大学工学研究科

• 増田 淳

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 宮本 修治

  兵庫県立大高度研

• 宮本 修治

  阪大レーザ研

• 高梨 泰幸

  兵庫県立大学

• 横山 新

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 仁木 敏一

  石川製作所

• 南 茂平

  石川製作所

• 三浪 大介

  兵庫県立大学工学研究科

• 中村 昌隆

  兵庫県立大学工学研究科

• 芹川 正

  東京大学先端科学技術研究センター

• 長谷川 裕師

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 山田 和史

  兵庫県立大学工学研究科

• 高野 昌宏

  北海道大学大学院

• 高野 昌宏

  石川県工業試験場機械金属部

• 松尾 直人

  兵庫県大

• 神田 一浩

  兵庫県立大学高度産業科学技術研究所

• 宮本 修治

  兵庫県立大学

• 天野 壮

  兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所

• 望月 孝晏

  兵庫県立大

• 神田 一浩

  兵庫県立大

• 宮本 修治

  兵庫県立大学高度産業技術研究所

• 宮本 修治

  兵庫県立大

• 宮本 修治

  姫工大高度研

• 望月 孝晏

  姫路工業大学高度産業科学技術研究所

• 神田 一浩

  兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所

• 米澤 保人

  石川県工業試験場

• 室井 進

  (株)石川製作所

• 山名 一成

  兵庫県立大学大学院工学研究科物質系工学専攻

• 宮本 修治

  阪大レーザー研

• 宮本 修治

  兵庫県立大学高度産業科学技術研究所

• 礒田 伸哉

  兵庫県立大学大学院物質系工学専攻

• 横山 新

  広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 横山 新

  広島大・ナノデバイス・バイオ融合研:広島大院・先端・生命機能

• 高城 祥吾

  兵庫県立大学物質系工学専攻

• 高田 忠雄

  兵庫県立大学物質系工学専攻

• 山名 一成

  兵庫県立大学物質系工学専攻

• 望月 孝晏

  姫路工業大学 高度産業科学技術研究所

• 高城 祥吾

  兵庫県大

• 高田 忠雄

  兵庫県立大学物質工学専攻

• 大倉 健作

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 米澤 保人

  石川県工試

• 上拾石 和也

  兵庫県立大学

• 部家 彰

  石川県工業試験場

• 高野 昌宏

  石川県工業試験場

• 増田 淳

  Japan Advanced Institute of Science and Technology

• 仁木 敏一

  Ishikawa Seisakusho, Ltd.

• 部家 彰

  Industrial Research Institute of Ishikawa

• 南川 俊治

  Industrial Research Institute of Ishikawa

• 梅本 宏信

  Japan Advanced Institute of Science and Technology

• 松村 英樹

  Japan Advanced Institute of Science and Technology

• 高野 昌宏

  石川県工試

• 仁木 敏一

  石川県工試

• 室井 進

  石川製作所

• 梅本 宏信

  北陸先端大

• 松村 英樹

  北陸先端大

• 山本 暁徳

  山口大学工学部

• 宮尾 正信

  九州大学大学院システム情報科学

• 佐道 泰造

  九州大学大学院システム情報科学

• 佐藤 真彦

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 佐道 泰造

  九州大学システム情報科学府

• 宮尾 正信

  九州大学システム情報科学府

• 都甲 薫

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 佐道 泰造

  Kyushu Univ. Fukuoka Jpn

• 大村 泰久

  関西大学大学院:関西大学先端科学技術推進機構

• 大村 泰久

  関西大学大学院:関西大学・先端科学技術推進機構

• 大村 泰久

  関西大学大学院工学研究科

• 小林 孝裕

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 栃尾 貴之

  関西大学大学院理工学研究科

• 大倉 健作

  広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 坂本 憲児

  広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 山本 暁徳

  山口大学工学部電気電子工学科

• 坂本 憲児

  広島大学

• 野々村 勇希

  兵庫県立大学工学部

• 木野 翔太

  兵庫県立大学工学部

• 都甲 薫

  九州大学システム情報科学研究院

• 小林 孝裕

  兵庫県立大学大学院

もっと見る 閉じる

著作論文

• レーザ・プラズマ軟X線照射がエキシマ・レーザによるa-Si膜の結晶化に与える効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• Cat-CVD法による窒化シリコン薄膜の低温堆積 : 気相診断と膜質評価(半導体エレクトロニクス)
• 有機ELディスプレイ用水蒸気バリア膜の形成 : 低温触媒CVD装置の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
• Cat-CVD 法によるガスバリア膜の低温形成
• Cat-CVD法により形成したSiNx膜の応力制御(S05-3 薄膜の強度物性,S05 薄膜の強度物性と信頼性)
• 水素変調ドープa-Si膜のエキシマレーザアニーリング
• a-Si中の水素原子とエキシマ・レーザ結晶化 : 核形成・成長に大きな影響を与えるか?(シリコン関連材料の作製と評価)
• ダブルSOI上に形成したトンネル誘電体TFTのAM-OLED駆動回路への応用(半導体材料・デバイス)
• 低温ELAプロセスにおいてa-Si膜中水素が結晶化に与える影響(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
• アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜表面のSi原子移動
• a-Si膜の熱結晶化におけるレーザプラズマ軟X線照射の効果
• エキシマレーザ・アニール法で形成した多結晶シリコン膜中のディスク状結晶粒の評価
• 水素輸送堆積法におけるペンタセン膜特性の水素流量依存性
• アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜中のSi原子移動(シリコン関連材料の作製と評価)
• 原子状水素アニール処理によるペンタセンTFTの絶縁膜界面特性の向上(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
• 原子状水素を利用したプラスチック基板の表面改質
• 非晶質Si膜へのレーザプラズマX線照射によるフォノン励起結晶化
• 加熱触媒体上で生成した原子状水素を用いたプラスチック基板の表面処理
• 低温ELAプロセスにおいてa-Si膜中水素が結晶化に与える影響(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
• 低温ELAプロセスにおいてa-Si膜中水素が結晶化に与える影響(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
• エキシマレーザ・アニールpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長における水素の効果(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• エキシマレーザ・アニールpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長における水素の効果(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• 有機ELディスプレイ用水蒸気バリア膜の形成 : 低温触媒CVD装置の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
• 有機ELディスプレイ用水蒸気バリア膜の形成 : 低温触媒CVD装置の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
• レーザプラズマ軟X線照射により形成された擬似結晶核を介したa-Si膜の結晶化(シリコン関連材料の作製と評価)
• Cat-CVD法による水蒸気バリア薄膜の低温形成 (特集 ELと光学技術)
• ペンタセンOTFTの膜質評価および電気伝導機構の考察(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• ペンタセンOTFTの膜質評価および電気伝導機構の考察(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• 有機ELの保護膜形成技術 (特集 有機・無機EL技術動向とその応用)
• ソース・ドレーン領域に極薄SiN_x膜を形成したTFTドレーン電流の温度依存性(半導体材料・デバイス)
• Siゲートを持つDNA電界効果トランジスタに関する研究(シリコン関連材料の作製と評価)
• 招待講演 軟X線照射のみによる半導体非晶質膜の低温結晶化 (シリコン材料・デバイス)
• 招待講演 軟X線照射のみによる半導体非晶質膜の低温結晶化 (有機エレクトロニクス)
• エキシマレーザ・アニールで作製した多結晶シリコン膜のディスク状結晶粒 : a-Si膜中の水素の影響
• DNA電界効果トランジスタの電荷保持特性(シリコン関連材料の作製と評価)
• 軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発(シリコン関連材料の作製と評価)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク