軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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結晶化が起こるには、結晶核形成と結晶粒成長の2つのプロセスを経る必要があるが、一般に結晶核形成には多くのエネルギーを必要とする。我々は軟X線照射により擬似的な結晶核を形成することで、半導体薄膜の低温結晶化を試みている。今回はa-Si膜とa-Ge膜の結晶化における軟X線照射の効果について検討した。Si膜とGe膜の結晶化温度は軟X線照射により680℃から580℃、500℃から420℃と低減した。この結晶化温度の低減は原子移動促進による擬似結晶核の形成によると考えられる。
- 2011-12-09
著者
-
宮本 修治
兵庫県立大高度研
-
望月 孝晏
兵庫県立大高度研
-
天野 壮
兵庫県立大高度研
-
宮本 修治
阪大レーザ研
-
松尾 直人
兵庫県立大学
-
宮本 修治
姫工大高度研
-
望月 孝晏
姫路工業大学高度産業科学技術研究所
-
部家 彰
石川県工試
-
松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
-
佐道 泰造
九州大学大学院システム情報科学
-
佐道 泰造
九州大学システム情報科学府
-
宮尾 正信
九州大学システム情報科学府
-
都甲 薫
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
佐道 泰造
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
-
宮本 修治
阪大レーザー研
-
部家 彰
兵庫県立大学工学研究科
-
神田 一浩
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
-
宮本 修治
兵庫県立大学
-
天野 壮
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
部家 彰
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
望月 孝晏
兵庫県立大
-
望月 孝晏
姫路工業大学 高度産業科学技術研究所
-
神田 一浩
兵庫県立大
-
野々村 勇希
兵庫県立大学工学部
-
木野 翔太
兵庫県立大学工学部
-
都甲 薫
九州大学システム情報科学研究院
-
松尾 直人
兵庫県立大学工学部
-
宮本 修治
兵庫県立大学高度産業技術研究所
-
部家 彰
兵庫県立大学大学院
-
部家 彰
兵庫県立大学 大学院工学研究科
-
宮本 修治
兵庫県立大
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