宮尾 正信 | 九州大学システム情報科学府

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概要

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• 佐道 泰造

  九州大学システム情報科学府

• 宮尾 正信

  九州大学システム情報科学府

• 大田 康晴

  九州大学システム情報科学府

• 田中 貴規

  九州大学システム情報科学府

• 宮尾 正信

  九州大学大学院システム情報科学

• 佐道 泰造

  九州大学大学院システム情報科学

• 佐道 泰造

  Kyushu Univ. Fukuoka Jpn

• 宮本 修治

  兵庫県立大高度研

• 宮本 修治

  阪大レーザ研

• 松尾 直人

  兵庫県立大学

• 望月 孝晏

  姫路工業大学高度産業科学技術研究所

• 部家 彰

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著作論文

• SiGeミキシング誘起溶融法による単結晶GOI(Ge on Insulator)形成のシード基板面方位・成長方向依存性 (有機エレクトロニクス)
• SiGeミキシング誘起溶融法による単結晶GOI(Ge on Insulator)形成のシード基板面方位・成長方向依存性 (シリコン材料・デバイス)
• SiGeミキシング誘起溶融法による単結晶GOI(Ge on Insulator)形成のシード基板面方位・成長方向依存性(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• SiGeミキシング誘起溶融法による単結晶GOI(Ge on Insulator)形成のシード基板面方位・成長方向依存性(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• SiGeミキシング誘起溶融法による単結晶GOI (Ge on Insulator) 形成のシード基板面方位・成長方向依存性
• SiGeミキシング誘起溶融法による単結晶GOI (Ge on Insulator) 形成のシード基板面方位・成長方向依存性
• 軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発(シリコン関連材料の作製と評価)
• 軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発

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