部家 彰 | 石川県工試
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概要
関連著者
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部家 彰
石川県工試
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松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
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部家 彰
兵庫県立大学工学研究科
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松尾 直人
兵庫県立大学
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部家 彰
兵庫県立大学大学院工学研究科
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部家 彰
兵庫県立大学大学院
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松尾 直人
兵庫県立大学工学部
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松尾 直人
兵庫県立大学工学研究科
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部家 彰
兵庫県立大学 大学院工学研究科
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部家 彰
兵庫県立大学物質系
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神田 一浩
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
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神田 一浩
兵庫県立大
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宮本 修治
兵庫県立大高度研
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宮本 修治
阪大レーザ研
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望月 孝晏
姫路工業大学高度産業科学技術研究所
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宮本 修治
兵庫県立大学
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望月 孝晏
兵庫県立大
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望月 孝晏
姫路工業大学 高度産業科学技術研究所
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宮本 修治
兵庫県立大学高度産業技術研究所
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宮本 修治
兵庫県立大
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松尾 直人
山口大学工学部
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松尾 直人
山口大 工
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長谷川 裕師
兵庫県立大学工学研究科
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天野 壮
兵庫県立大高度研
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横山 新
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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河本 直哉
山口大学大学院理工学研究科
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長谷川 裕師
兵庫県立大学大学院工学研究科
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山田 和史
兵庫県立大学工学研究科
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天野 壮
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
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望月 孝晏
兵庫県立大高度研
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高梨 泰幸
兵庫県立大学
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宮本 修治
姫工大高度研
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神田 一浩
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
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南川 俊治
石川県工業試験場
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河本 直哉
山口大学工学部電気電子工学科
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南川 俊治
石川県工試
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山名 一成
兵庫県立大学大学院工学研究科物質系工学専攻
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河本 直哉
山口大 工
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高梨 泰幸
兵庫県立大学大学院物質系工学専攻
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松尾 直人
山口大
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佐道 泰造
九州大学システム情報科学府
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宮尾 正信
九州大学システム情報科学府
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宮本 修治
阪大レーザー研
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河本 直哉
山口大学工学部
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礒田 伸哉
兵庫県立大学大学院物質系工学専攻
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横山 新
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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横山 新
広島大・ナノデバイス・バイオ融合研:広島大院・先端・生命機能
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高城 祥吾
兵庫県立大学物質系工学専攻
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高田 忠雄
兵庫県立大学物質系工学専攻
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山名 一成
兵庫県立大学物質系工学専攻
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高城 祥吾
兵庫県大
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野々村 勇希
兵庫県立大学工学部
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木野 翔太
兵庫県立大学工学部
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都甲 薫
九州大学システム情報科学研究院
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高田 忠雄
兵庫県立大学物質工学専攻
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大倉 健作
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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米澤 保人
石川県工試
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
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梅本 宏信
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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米澤 保人
石川県工業試験場
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
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仁木 敏一
(株)石川製作所
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室井 進
(株)石川製作所
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高野 昌宏
石川県工試
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仁木 敏一
石川県工試
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室井 進
石川製作所
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増田 淳
北陸先端大
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梅本 宏信
北陸先端大
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松村 英樹
北陸先端大
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宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
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佐道 泰造
九州大学大学院システム情報科学
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佐藤 真彦
兵庫県立大学大学院工学研究科
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都甲 薫
九州大学大学院システム情報科学研究院
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佐道 泰造
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
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高野 昌宏
北海道大学大学院
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高野 昌宏
石川県工業試験場機械金属部
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宮本 修治
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
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大村 泰久
関西大学大学院:関西大学先端科学技術推進機構
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大村 泰久
関西大学大学院:関西大学・先端科学技術推進機構
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大村 泰久
関西大学大学院工学研究科
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小林 孝裕
兵庫県立大学大学院工学研究科
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栃尾 貴之
関西大学大学院理工学研究科
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大倉 健作
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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坂本 憲児
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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坂本 憲児
広島大学
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佐道 泰造
九州大学システム情報科学研究院
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宮尾 正信
九州大学システム情報科学研究院
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天野 壮
兵庫県立大学高度産業技術研究所
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小林 孝裕
兵庫県立大学大学院
著作論文
- Cat-CVD法により形成したSiNx膜の応力制御(S05-3 薄膜の強度物性,S05 薄膜の強度物性と信頼性)
- アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜表面のSi原子移動
- a-Si膜の熱結晶化におけるレーザプラズマ軟X線照射の効果
- エキシマレーザ・アニール法で形成した多結晶シリコン膜中のディスク状結晶粒の評価
- 水素輸送堆積法におけるペンタセン膜特性の水素流量依存性
- アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜中のSi原子移動(シリコン関連材料の作製と評価)
- 原子状水素アニール処理によるペンタセンTFTの絶縁膜界面特性の向上(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- エキシマレーザ・アニールpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長における水素の効果(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- エキシマレーザ・アニールpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長における水素の効果(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- レーザプラズマ軟X線照射により形成された擬似結晶核を介したa-Si膜の結晶化(シリコン関連材料の作製と評価)
- ペンタセンOTFTの膜質評価および電気伝導機構の考察(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- ペンタセンOTFTの膜質評価および電気伝導機構の考察(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- 有機ELの保護膜形成技術 (特集 有機・無機EL技術動向とその応用)
- ソース・ドレーン領域に極薄SiN_x膜を形成したTFTドレーン電流の温度依存性(半導体材料・デバイス)
- Siゲートを持つDNA電界効果トランジスタに関する研究(シリコン関連材料の作製と評価)
- エキシマレーザ・アニールで作製した多結晶シリコン膜のディスク状結晶粒 : a-Si膜中の水素の影響
- DNA電界効果トランジスタの電荷保持特性(シリコン関連材料の作製と評価)
- 軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発(シリコン関連材料の作製と評価)
- 軟X線照射のみによる半導体非晶質膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- 軟X線照射のみによる半導体非晶質膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- 軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発