宮井 良雄 | 三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

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概要

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• 三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所の論文著者

関連著者

• 浜田 弘喜

  三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所

• 宮井 良雄

  三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

• 阿部 寿

  三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

• 宮井 良雄

  三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所

• 浜田 弘喜

  三洋電機(株)デジタルシステム研究所

• 阿部 寿

  三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所

• 松尾 直人

  山口大学工学部

• 松尾 直人

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 納田 朋幸

  三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

• 納田 朋幸

  三洋電機

• 松尾 直人

  山口大

• 河本 直哉

  山口大学工学部

• 松尾 直人

  兵庫県大

• 綾 洋一郎

  三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所

• 納田 朋幸

  三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所

• 長谷川 勲

  三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所

• 河本 直哉

  山口大学大学院理工学研究科

• 田口 亮平

  山口大学工学部

• 長谷川 勲

  三洋電機(株)マテリアル・デバイス研究所

• 浜田 弘喜

  三洋電機株式会社 先進太陽光発電開発センター

• 田口 亮平

  山口大学工学部電気電子工学科

• 河本 直哉

  山口大学工学部電気電子工学科

• 河本 直哉

  山口大 工

• 浜田 弘喜

  三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所

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著作論文

• エキシマレーザアニーリングにより形成された多結晶シリコンの成長様式 : グレーン形状と水素の関係についての検討(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• 多結晶Si薄膜トランジスタの高性能化と高精細LCDライトバルブへの応用
• エキシマレーザアニーリング時におけるディスク形状多結晶Si粒の形成(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• a-Siのエキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化poly-Siの検討 : 薄膜中に含有された水素を考慮して
• a-Siのエキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化poly-Siの検討 : 薄膜中に含有された水素を考慮して
• 多結晶Si薄膜トランジスタの高性能化と高精細LCDライトバルブへの応用
• 高性能多結晶Si薄膜トランジスタの作製と高精細LCDライトバルブの特性改善
• 固相成長とエキシマレーザアニール法で形成したPoly-Si薄膜の特性評価
• SC-8-2 Poly-Si TFT技術の現状と今後の展開

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