広波長範囲(1530〜1610nm)EA変調器集積DFB-LDの一括形成(2) : 素子特性
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-09-07
著者
-
山口 昌幸
NEC光エレクトロニクス研究所
-
室谷 義治
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
清水 淳一
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
小松 啓郎
Nec
-
工藤 耕治
NECナノエレクトロニクス研究所
-
小松 啓郎
Nec Ulsiデバイス開発研究所
-
清水 淳一
NEC化合物デバイス株式会社
-
山口 昌幸
NEC化合物デバイス事業部
-
石坂 政茂
NECナノエレクトロニクス研究所
-
阪田 康隆
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
井元 康雅
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
高井 徹
NEC関西
-
加藤 広己
NEC関西
-
石坂 政茂
NEC光超高周波研究所
-
室谷 義治
関西エレクトロニクス研究所
-
加藤 広巳
NEC関西
-
谷口 義登
NEC関西
-
工藤 耕治
NEC光超高周波研究所
-
山口 昌幸
NEC光超高周波研究所
-
石坂 政茂
Necナノエレクトロニクス研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
石坂 政茂
NECシステムプラットフォーム研究所
-
阪田 康隆
Necエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
井元 康雅
Nec Ul開研
-
石坂 政茂
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
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