EB露光回折格子のスティッチングエラー評価
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概要
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波長多重(WDM)伝送において重要となる波長制御光源では, DFBレーザ素子内に作製する回折格子周期および位相の精密制御が重要となる。我々はこれまでに, 重み付け電子ビーム露光(WAVE: Weighted-dose Allocation Variable-pitch EB-lithography)回折格子と高均一MOVPEを組み合わせて, 発振波長を精密に制御した多波長DFB-LDについて報告した。しかしながら, EB露光法固有の問題としては, 回折格子内に導入されるスティッチングエラー(描画フィールド継目に生じる位相ずれ)が発振特性に与える影響が懸念される。今回, WAVEを用いて回折格子を作成したλ/4シフトDFBレーザについて, スティッチングエラーがレーザの発振特性へ与える影響を検討した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
佐藤 健二
Necナノエレクトロニクス研究所
-
室谷 義治
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
鳥飼 俊敬
NEC関西エレクトロニクス研究所
-
鈴木 尚文
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
-
佐藤 健二
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
-
鳥飼 俊敬
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
-
鈴木 尚文
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
-
山田 博仁
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
-
室谷 義治
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
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