マイクロアレイ技術によるWDM用波長選択光源
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概要
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将来のWDM光波ネットワークにおいては、波長可変等の高機能特性を実現できる光集積素子(PIC)の実用化が強く望まれている。しかし、PICには、全体の素子サイズが大きくなるため、ウエハからの収量が減少し、コスト増大を招くという問題があった。我々は、PICの極小化を可能にする新技術として、マイクロアレイ選択成長(Microarray-Selective-Epitaxy, MASE)技術を提案、研究を進めている。MASE技術は、バンドギャップ波長が独立に制御された半導体レーザを、10μm以下の極めて狭い間隔で並べることができる高密度アレイ形成技術である。この技術を用いると、アレイ光源を有する光集積素子を従来の1チップ程度のサイズで実現することが可能となる。実際に、8ch異波長マイクロアレイDFBレーザとMMI光合波器、光増幅器、光変調器が集積された波長選択光源を試作し、良好な特性を得ることができた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-10-21
著者
-
山口 昌幸
NEC光エレクトロニクス研究所
-
室谷 義治
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
室谷 義治
NEC光・無線デバイス研究所
-
畠山 大
NECシステムデバイス研究所
-
畠山 大
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
-
浜本 貴一
NECシステムデバイス研究所
-
工藤 耕治
NECナノエレクトロニクス研究所
-
山口 昌幸
NEC化合物デバイス事業部
-
室谷 義治
関西エレクトロニクス研究所
-
工藤 耕治
NEC株式会社光・超高周波デバイス研究所
-
浜本 貴一
NEC株式会社光・超高周波デバイス研究所
-
畠山 大
NEC株式会社光・超高周波デバイス研究所
-
山口 昌幸
NEC株式会社光・超高周波デバイス研究所
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