井元 康雅 | NEC ULSIデバイス開発研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
阪田 康隆
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
井元 康雅
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
阪田 康隆
Necエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
井元 康雅
Nec Ul開研
-
小松 啓郎
Nec
-
小松 啓郎
Nec Ulsiデバイス開発研究所
-
山口 昌幸
NEC化合物デバイス事業部
-
山口 昌幸
NEC光エレクトロニクス研究所
-
室谷 義治
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
工藤 耕治
NECナノエレクトロニクス研究所
-
石坂 政茂
NECナノエレクトロニクス研究所
-
石坂 政茂
Necナノエレクトロニクス研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
石坂 政茂
NECシステムプラットフォーム研究所
-
石坂 政茂
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
清水 淳一
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
-
古嶋 裕司
NEC化合物デバイス株式会社
-
蓮見 秀世
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
工藤 耕治
NEC光・無線デバイス研究所
-
清水 淳一
NEC化合物デバイス株式会社
-
古嶋 裕司
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
山口 昌幸
NEC光・超高周波デバイス研究所
-
山口 昌幸
NEC 光・超高周波デバイス研究所
-
室谷 義治
NEC光・無線デバイス研究所
-
室谷 義治
NEC関西エレクトロニクス研究所
-
屋敷 健一郎
NEC光・無線デバイス研究所
-
佐々木 善浩
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
石坂 政茂
NEC Ul開研
-
工藤 耕治
NEC 光・超高周波デバイス研究所
-
安食 浩司
NEC関西
-
横山 吉隆
NEC光・超高周波デバイス研究所
-
高井 徹
NEC関西
-
加藤 広己
NEC関西
-
谷口 義登
NEC関西
-
山崎 裕幸
NECナノエレクトロニクス研究所
-
室谷 義治
NEC 関西エレクトロニクス研究所
-
小松 啓郎
NEC光エレクトロニクス研究所
-
森本 卓夫
NECナノエレクトロニクス研究所
-
山崎 裕幸
NEC 光エレクトロニクス研究所
-
細田 哲也
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
森本 卓夫
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
石坂 政茂
NEC光・超高周波デバイス研究所
-
北村 昌太郎
NEC 化合物デバイス(事)
-
室谷 義治
関西エレ研
-
森本 卓夫
NEC・ULSIデバイス開発研究所
-
山崎 裕幸
NEC光エレクトロニクス研究所
-
奥田 哲朗
NEC化合物デバイス(株)
-
奥田 哲朗
NEC光・無線デバイス研究所
-
奥田 哲朗
NEC関西エレクトロニクス研究所
-
村上 智樹
Nec Ulsiデバイス開発研究所
-
佐々木 達也
Necシステムデバイス研究所
-
山本 雅樹
Nec化合物デバイス事業部
-
北村 光弘
NEC 光エレクトロニクス研究所
-
佐々木 達也
NEC 光・無線デバイス研究所
-
加藤 友章
NEC光・無線デバイス研究所
-
加藤 友章
Nec光・超高周波デバイス研究所
-
福知 清
システムプラットフォーム研究所
-
福知 清
Nec C&cメディア研究所
-
加藤 友章
NEC 光・無線デバイス研究所
-
北村 昌太郎
NEC化合物デバイス事業部
-
屋敷 健一郎
NEC 光・無線デバイス研究所
-
古嶋 裕司
NEC光・超高周波デバイス研究所
-
清水 淳一
NEC Ul開研
-
横山 吉隆
NEC 光・超高研
-
石坂 政茂
NEC光超高周波研究所
-
室谷 義治
関西エレクトロニクス研究所
-
加藤 広巳
NEC関西
-
工藤 耕治
NEC光超高周波研究所
-
山口 昌幸
NEC光超高周波研究所
-
石坂 政茂
NEC光エレクトロニクス研究所
-
清水 淳一
NEC光エレクトロニクス研究所化合物デバイス事業部
-
小松 哲郎
NEC 光エレクトロニクス研究所
-
古嶋 裕司
NEC 光・超高周波デバイス研究所
-
石坂 政茂
NEC 光・超高周波デバイス研究所
-
北村 光弘
Nec
-
田辺 浩一
NEC 関西
-
安食 浩司
NEC 関西
-
谷口 義登
NEC 関西
-
松前 友彦
NEC 関西
-
佐々木 達也
Nec 光・無線デバイス研
著作論文
- 10Gb/s変調器集積化光源とそのチャープ特性の検討
- 全選択MOVPE成長型1.3μmスポットサイズ変換器集積LD
- 1.3μm帯 CATV 用 ASM-DFB LD
- 高温高信頼1.3μm歪MQW-ASM-DC-PBHレーザ
- 全MOVPE選択成長による, 1.3μm 帯歪MQW-BHレーザ
- C-4-14 10Gb/s-WDM用異波長一括形成EA変調器集積DFB-LD
- 2インチウェハ面内波長制御技術を用いた10Gb/s変調器集積DFB-LDのL帯8ch.一括作製
- 高速・広波長帯域化の進むDWDMに対応した異波長一括作製EA変調器集積DFB-LD
- 高速・広波長帯域化の進むDWDMに対応した異波長一括作製EA変調器集積DFB-LD
- 高速・広波長帯域化の進むDWDMに対応した異波長一括作製EA変調器集積DFB-LD
- SC-3-6 WDM用異波長一括形成EA変調器集積DFB-LDの波長分布制御
- 広波長範囲(1530〜1610nm)EA変調器集積DFB-LDの一括形成(2) : 素子特性
- 広波長範囲(1530-1610nm)EA変調器集積DFB-LDの一括形成(1) : 設計コンセプトと作製方法
- バンドギャップ制御選択MOVPEによる10Gb/s用変調器集積化光源
- 低電圧駆動・高出力DFB-LD/変調器集積化光源
- SC-3-7 LバンドWDM伝送に対応した1.56〜1.61μmASM-SI-BH型EA変調器集積DFB-LD
- 全MOVPE選択成長型1.3μm歪MQW-BHレーザの高均一特性
- 1.3μm・歪MQW-ASM-RIB-PBHレーザにおける高均一・低しきい値動作