TiAlN/HfSiONゲートスタックにおけるX線光電子分光分析 : Al拡散による実効仕事関数変化の緩和
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概要
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- 2008-06-02
著者
-
大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
森 大樹
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
吉永 博路
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
門島 勝
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
奈良 安雄
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
宮崎 誠一
広島大学大学院
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