森 大樹 | 広島大学大学院先端物質科学研究科
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概要
関連著者
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大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
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広島大学大学院先端物質科学研究科
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広島大学大学院先端物質科学研究科
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(株)半導体先端テクノロジーズ
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半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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(株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部
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門島 勝
ルネサステクノロジ
著作論文
- TiAlN/HfSiONゲートスタックにおけるX線光電子分光分析 : Al拡散による実効仕事関数変化の緩和(メタルゲート/High-k絶縁膜スタック,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Ru/HfSiONゲートスタックのバックサイドX線光電子分光分析 : Ruの実効仕事関数変化の起源(メタルゲート/High-k絶縁膜スタック,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Ru/HfSiONゲートスタックのバックサイドX線光電子分光分析 : Ruの実効仕事関数変化の起源
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