リモートH_2プラズマ支援によるCoPtナノドットの高密度形成と帯電・帯磁特性評価(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
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概要
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CoとPtの合金化により高い一軸磁気異方性を示すCoPt合金に着目し、Co極薄膜上に形成した極薄Pt膜にリモート水素プラズマ処理を施すことで、合金ドットの形成を試みた。さらには、形成したナノドットの帯電および帯磁特性を走査プローブ顕微鏡により評価した。プラズマ処理前後の表面形状変化から、極薄Pt/Co積層膜へのリモート水素プラズマ照射によって、高密度ナノドットの高密度一括形成が認められ、形成したナノドットの光電子スペクトルにおける低運動エネルギ信号のしきい値エネルギから仕事関数を評価した結果、CoPt合金ナノドットの形成が認められた。さらには、導電性AFM探針を用いた帯電特性評価において、探針電圧-2.0V印加した後、電子注入・保持に起因した表面電位変化-30mVの負帯電が認められることから、形成した合金ナノドットは絶縁分離しており電荷保持ノードとして機能するとともに、CoPtCrコートSi探針を用いて非接触測定したMFM像において、探針-ナノドットの磁気的作用を反映した明瞭なコントラストが認められることからスピン保持ノードとしても機能することを明らかにした。
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2013-06-11
著者
-
大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
牧原 克典
名古屋大学大学院工学研究科
-
宮崎 誠一
名古屋大学 大学院工学研究科
-
福岡 諒
名古屋大学大学院工学研究科
-
張 海
名古屋大学大学院工学研究科
-
壁谷 悠希
名古屋大学大学院工学研究科
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