TaO_x層挿入によるHfO_2/Ge界面反応制御

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概要

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• 2012-06-14

著者

• 大田 晃生

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 東 清一郎

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 三嶋 健斗

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 橋本 邦明

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 宮崎 誠一

  名古屋大学 大学院工学研究科

• 村上 秀樹

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 三嶋 健斗

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 大田 晃生

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

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