三嶋 健斗 | 広島大学大学院先端物質科学研究科
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概要
関連著者
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大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
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三嶋 健斗
広島大学大学院先端物質科学研究科
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広島大学大学院先端物質科学研究科
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東 清一郎
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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大田 晃生
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宮崎 誠一
広大院先端研
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宮崎 誠一
広大
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村上 秀樹
Department Of Orthopaedic Surgery Kanazawa University School Of Medicine
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宮崎 誠一
名古屋大学大学院工学研究科
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橋本 邦明
広島大学大学院先端物質科学研究科
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藤岡 知宏
広島大学大学院先端物質科学研究科
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宮崎 誠一
広島大学大学院先端物質科学研究科
著作論文
- Ge(100)表面の極薄TiO_xキャッピングによるHfO_2原子層堆積/熱処理時の界面反応制御(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- TaOx層挿入によるHfO/Ge界面反応制御 (シリコン材料・デバイス)
- TaO_x層挿入によるHfO_2/Ge界面反応制御(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- TaO_x層挿入によるHfO_2/Ge界面反応制御