メタルゲート/高誘電率絶縁膜スタックの最前線
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概要
著者
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奈良 安雄
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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奈良 安雄
(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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奈良 安雄
(株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部
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奈良 安雄
(株)半導体先端テクノロジーズ
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