光刺激脱離によるSi上の酸化物の低温除去とSiホモエピタキシー
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概要
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- 1995-02-20
著者
-
奈良 安雄
(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
-
伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
-
杉田 義博
(株)富士通研究所
-
伊藤 隆司
(株)富士通研究所
-
伊藤 隆司
富士通研究所
-
伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
-
奈良 安雄
(株)富士通研究所
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