杉田 義博 | (株)富士通研究所
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概要
関連著者
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杉田 義博
(株)富士通研究所
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杉田 義博
富士通研究所株式会社
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杉田 義博
富士通研究所
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高橋 功
関学大理工
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淡路 直樹
富士通研究所
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伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
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高橋 功
関学大理ハイテク・リサーチ・センター
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伊藤 隆司
富士通研究所
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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株式会社富士通研究所
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(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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(株)富士通研究所
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森崎 祐輔
株式会社富士通研究所 Cプロジェクト部
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(株)富士通研究所
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関学大理
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奈良 安雄
(株)富士通研究所
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山崎 隆浩
富士通研
著作論文
- 水酸基終端シリコン表面の形成(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 高誘電率ゲート絶縁膜材料の結晶化シミュレーション
- 光刺激脱離によるSi上の酸化物の低温除去とSiホモエピタキシー
- 溶液処理におけるシリコン表面上の酸化物生成機構と残留酸化物がシリサイド化反応に与える効果
- 28p-S-2 極薄シリコンウエハー上に成長させた熱酸化薄膜の構造
- 31a-T-10 熱酸化Si/Si(001)界面遷移相のアニール依存性
- 溶液Si界面のその場振動分光