小坂 裕子 | 富士通研究所

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• 小坂 裕子

  富士通研究所

• 山崎 隆浩

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• 金田 千穂子

  富士通研

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  株式会社富士通研究所 Cプロジェクト部

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著作論文

• HfO_2系高誘電率ゲート絶縁膜の熱的安定 : 分子動力学シミュレーション(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• 高誘電率ゲート絶縁膜材料の結晶化シミュレーション
• 汎用MDソフトの開発と適用事例(半導体ゲート絶縁膜開発におけるMDの利用)

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