高誘電率ゲート絶縁膜材料の結晶化シミュレーション
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概要
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- 2001-12-13
著者
-
山崎 隆浩
株式会社富士通研究所
-
金田 千穂子
富士通研
-
金田 千穂子
富士通研究所
-
山崎 隆浩
富士通研究所
-
小坂 裕子
富士通研究所
-
金田 千穂子
(株)富士通研究所
-
小坂 裕子
(株)富士通研究所
-
山崎 隆浩
(株)富士通研究所
-
森崎 祐輔
(株)富士通研究所
-
杉田 義博
(株)富士通研究所
-
森崎 祐輔
株式会社富士通研究所 Cプロジェクト部
-
山崎 隆浩
富士通研
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