22pWA-5 半導体デバイス用絶縁膜材料開発における原子スケールシミュレーションの活用(領域11,領域4合同シンポジウム:コンピュテーショナル・マテリアルズ・デザイン(CDM^[○!R])先端研究事例,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2007-08-21

著者

• 山崎 隆浩

  株式会社富士通研究所

• 金田 千穂子

  富士通研

• 金田 千穂子

  富士通研究所

• 山崎 隆浩

  富士通研究所

• 高橋 憲彦

  富士通研究所

• 山崎 隆浩

  富士通研

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