Si(100)面の酸化反応における等温及び断熱遷移過程

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1996-09-13

著者

• 山崎 隆浩

  株式会社富士通研究所

• 加藤 弘一

  (株)東芝研究開発センター新機能材料・デバイスラボラトリー

• 寺倉 清之

  北陸先端大融合院

• 寺倉 清之

  Jrcat

• 山崎 隆浩

  富士通研究所

• 宇田 毅

  JRCAT-ATP

• 加藤 弘一

  JRCAT-ATP

• Yamasaki Takahiro

  JRCAT

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