シリコン表面の未結合ボンドでの初期酸化反応
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 1999-10-10
著者
-
平家 誠嗣
株式会社日立製作所基礎研究所
-
橋詰 富博
東北大WPI-AIMR
-
加藤 弘一
(株)東芝研究開発センター新機能材料・デバイスラボラトリー
-
橋詰 富博
(株)日立製作所基礎研究所
-
梶山 博司
日立 基礎研
-
梶山 博司
日立
-
梶山 博司
(株)日立製作所基礎研究所
-
平家 誠嗣
(株)日立製作所基礎研究所
-
内山 登志弘
産業技術融合領域研究所アトムテクノロジー研究体
-
宇田 毅
産業技術融合領域研究所アトムテクノロジー研究体
-
宇田 毅
アドバンスソフト
-
加藤 弘一
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
平家 誠嗣
日立中研
-
橋詰 富博
(株)日立製作所中央研究所
-
宇田 毅
(株)ASMS
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