イオンプレーテイング法によるMgO薄膜の形成

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概要

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• MgO thin films as a protective layer in plasma display panels (PDPs) were deposited by an advanced ion-plating (IP) method. Scanning electron microscopy and atomic force microscopy observations revealed that the IP films had columnar structures with sharp apexes at the film surface. The MgO thin films were mainly (111) oriented, and the orientation of the films was strongly dependent on oxygen content in the deposition process. The growth of (111) orientated films was promoted in IP method compared to conventional electron beam deposition (EB) method. The performance of MgO protective film could be expected to improve by the advanced ion-plating (IP) method for PDPs application.

• 社団法人日本セラミックス協会の論文
• 2002-03-01

著者

• 加藤 明

  (株)日立製作所日立研究所

• 鬼沢 賢一

  日立

• 鬼沢 賢一

  (株)日立製作所日立研究所

• 峯村 哲郎

  株式会社日立製作所日立研究所

• 梶山 博司

  株式会社日立製作所日立研究所

• 堀 崇展

  新明和工業株式会社開発センタ

• 梶山 博司

  (株)日立製作所基礎研究所

• 加藤 明

  (株)日立製作所

• 峯村 哲郎

  (株)日立製作所日立研究所

• 上谷 一夫

  新明和工業(株)開発センター

• 井原 靖

  新明和工業(株)開発センター

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