イオンビームデポジション法による 高耐食・高純度鉄薄膜の形成
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概要
著者
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伊藤 修
(株)日立製作所電力システム社エネルギ・環境システム研究所
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高橋 宏昌
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
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高橋 宏昌
(株)日立製作所中央研究所
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峯村 哲郎
株式会社日立製作所日立研究所
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三宅 潔
(株)日立製作所日立研究所
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大橋 健也
(株)日立製作所日立研究所
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大橋 鉄也
(株)日立製作所日立研究所
-
峯村 哲郎
(株)日立製作所日立研究所
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大橋 健也
日立 日立研
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大橋 健也
日立 材料研
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大橋 健也
(株)日立製作所 日立研究所
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伊藤 修
(株)日立製作所日立研究所研究員
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三宅 潔
(株)日立製作所 電力・電機開発本部
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高橋 宏昌
(株)日立製作所 基礎研究所
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