Fe_3O_4膜の極薄膜化における磁気・電気特性の変化
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
浅野 秀文
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
-
松井 正顕
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
-
高橋 宏昌
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
-
早川 純
(株)日立製作所基礎研究所
-
浅野 秀文
名古屋大学
-
松井 正顯
名大工
-
松井 正顯
名古屋大学大学院工学研究科
-
早川 純
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所
-
高橋 宏昌
(株)日立製作所基礎研究所
-
早川 純
日立基礎研
-
Akinaga Hiroyuki
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
-
添谷 進
日立製作所中央研究所
-
Asano H
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
-
高橋 宏昌
(株)日立製作所研究開発本部
-
Matsui M
Department Of Materials Science And Engineering Nagoya University
-
高橋 宏昌
日立ストレージテクノロジーリサーチセンタ
-
添谷 進
日立ストレージテクノロジーリサーチセンタ
-
Asano H
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
-
Asano H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories:(present Address)nagoya University Department Of Materia
-
早川 純
日立 中研
-
早川 純
日立 基礎研
-
松井 正顕
名古屋大学
-
高橋 宏昌
日立製作所ST研究センター
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