Fe2VSi薄膜の歪効果と電気伝導特性
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概要
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To understand the effects of biaxial strain on the properties of a Heusler alloy, the structural and electrical properties of Fe2VSi thin films in various strain states were investigated. Epitaxial Fe2VSi films were subjected to tensile strain on MgAl2O4 and MgO substrates, while films on LaAlO3 were given compressive strain. The Néel temperatures varied systematically depending on c/a in a wide range from tensile to compressive strain states. Structural characterization revealed that the films on MgO and LaAlO3 were in almost relaxed-strain states with misfit dislocation at the substrate / Fe2VSi interfaces. The ideal resistivity of films (∼20 nm) on MgO revealed large dependence on temperature (ρ-ρ0 ∝TN ≥ T2), which is related to the existence of misfit dislocations with their large lattice mismatches.
著者
-
深谷 直人
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
-
植田 研二
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
-
浅野 秀文
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
-
浅野 秀文
名古屋大学
-
浅野 秀文
名古屋大学大学院工学研究科マテリアル理工学専攻
-
浅野 秀文
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
-
Asano H
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
-
Asano H
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
-
Asano H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories:(present Address)nagoya University Department Of Materia
-
植田 研二
名古屋大学大学院工学研究科
-
深谷 直人
名古屋大学大学院工学研究科
-
植田 研二
名古屋大学
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