早川 純 | 日立 基礎研
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概要
関連著者
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早川 純
(株)日立製作所基礎研究所
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早川 純
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所
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早川 純
日立 中研
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早川 純
日立 基礎研
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伊藤 顕知
(株)日立製作所基礎研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 基礎研究所
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浅野 秀文
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
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高橋 宏昌
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
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高橋 宏昌
(株)日立製作所基礎研究所
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Asano H
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
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Matsui M
Department Of Materials Science And Engineering Nagoya University
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Asano H
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
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Asano H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories:(present Address)nagoya University Department Of Materia
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早川 純
(株)日立製作所 基礎研究所
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高橋 宏昌
日立製作所ST研究センター
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高橋 宏昌
(株)日立製作所研究開発本部
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杉山 幹人
名古屋大学大学院工学研究科
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市村 雅彦
日立基礎研
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伊藤 顕知
(株)日立製作所中央研究所
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市村 雅彦
東北大金研:日立基礎研
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部
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松井 正顕
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
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池田 正二
東北大学電気通信研究所
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大野 英男
東北大学電気通信研究所
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浅野 秀文
名古屋大学
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松井 正顯
名大工
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池田 正二
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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池田 正二
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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大野 英男
東北大学電気通信研究所東北大省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター
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松井 正顕
名古屋大学
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早川 純
日立中研
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伊藤 顕知
日立中研
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早川 純
日立製作所基礎研究所
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大野 英男
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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高橋 宏昌
(株)日立製作所 基礎研究所
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大野 英男
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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古門 聡士
日立中研
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小野木 敏之
日立基礎研
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竹村 理一郎
(株)日立製作所中央研究所
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河原 尊之
(株)日立製作所中央研究所
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佐々木 龍太郎
東北大学電気通信研究所
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松岡 秀行
(株)日立製作所基礎研究所
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古門 聡士
静大工
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添谷 進
日立製作所中央研究所
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三浦 勝哉
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設:日立製作所基礎研究所
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佐々木 龍太郎
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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三浦 勝哉
日立製作所基礎研究所
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松岡 秀行
日立製作所基礎研究所
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高橋 宏昌
日立製作所基礎研究所
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佐久間 昭正
東北大工
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三浦 勝哉
(株)日立製作所基礎研究所
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山ノ内 路彦
(株)日立製作所基礎研究所
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佐久間 昭正
日立金属(株)磁性材料研究所
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浅野 秀文
名大・工
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早川 純
日立製作所 基礎研究所
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来田 歩
名古屋大学大学院工学研究科
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山本 千早人
名古屋大学
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杉山 幹人
名大
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來田 歩
名古屋大学大学院工学研究科
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来田 歩
(株)日立基礎研
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山本 千早人
名古屋大学大学院工学研究科
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佐久間 昭正
日立金属 磁性材研
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松岡 秀行
(株)日立製作所中央研究所
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松井 正顕
名大工
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鈴木 良夫
日立中研
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佐久間 昭正
日立金属
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李 永〓
東北大学電気通信研究所
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目黒 敏靖
東北大学電気通信研究所
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松井 正顯
名大
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鈴木 良夫
日立
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早川 純
日立基礎研
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松倉 文礼
東北大学電気通信研究所附属ナノ・スピン実験施設
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伊藤 顕知
日立製作所生産技術研究所
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添谷 進
(株)日立製作所研究開発本部
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松倉 文
東北大学電気通信研究所附属ナノ・スピン実験施設
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松倉 文〓
東北大学電気通信研究所 超高密度・高速知能システム実験施設
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李 永〓
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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目黒 敏靖
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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大野 英男
東北大通研
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平家 誠嗣
日立基礎研
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橋詰 富博
日立基礎研
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平家 誠嗣
株式会社日立製作所基礎研究所
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橋詰 富博
東北大WPI-AIMR
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河原 尊之
日立製作所・中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所 中央研究所
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伊藤 顕知
日立ヨーロッパ社日立ケンブリッジ研究所
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松倉 文[ひろ]
東北大学電気通信研究所
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松井 正顯
名古屋大学大学院工学研究科
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小埜 和夫
(株)日立製作所中央研究所
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藤森 正成
日立中研
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藤森 正成
日立基礎研
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高橋 宏昌
日立基礎研
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伊藤 顕知
日立ケンブリッジ研究所
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池田 正二
東北大通研
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Akinaga Hiroyuki
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
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伊藤 顕知
日立
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松岡 秀行
日立製作所中央研究所
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浅野 秀文
名大工
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小原 安弘
名古屋大学大学院工学研究科
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松倉 文礼
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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市村 雅彦
(株)日立製作所基礎研究所
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高橋 宏昌
日立ストレージテクノロジーリサーチセンタ
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添谷 進
日立ストレージテクノロジーリサーチセンタ
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松井 正顕
名大 工
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松倉 文
東北大学 電気通信研究所
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小埜 和夫
日立製作所中央研究所
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竹村 理一郎
日立製作所中央研究所
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山ノ内 路彦
日立製作所基礎研究所
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杉山 幹大
名古屋大学大学院工学研究科
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佐久間 昭正
(株)日立金属
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杉山 幹人
名大工
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平家 誠嗣
日立中研
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小埜 和夫
(株)日立製作所 中央研究所
著作論文
- 18PWA-3 強磁性トンネル接合系の磁気抵抗効果 : 絶縁層の及ぼす影響
- Co/Al-oxide/Coのトンネル磁気抵抗効果の理論
- 双方向電流書換方式、平行化方向読出し方式を用いた2Mb-SPRAM (SPin-transfer torque RAM)(新メモリ技術とシステムLSI)
- 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ, VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 交換バイアス型スピンバルブ素子のスピントルク磁化反転
- スパッタ製膜MgO障壁強磁性トンネル素子の磁気抵抗効果とスピントルク磁化反転
- Fe_3O_4膜の極薄膜化における磁気・電気特性の変化
- ハーフメタル薄膜の磁気、伝導特性
- Au膜上のハーフメタルFe_3O_4薄膜の開発とその応用
- ハーフメタルFe_3O_4膜の開発と応用 : ハーフメタル適用GMR
- 17pYH-2 CrAS/GaAsの電子状態 : バンド計算
- 23pYB-4 CO/Al_2O_3/Coの磁気抵抗効果に関する理論的研究
- 高読出しディスターブ耐性と長リテンションを実現する高耐熱スピン注入RAM
- CO_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合のインバースTMRのバイアス依存性
- ハーフメタル強磁性体を用いたスピントンネル素子とその応用
- ハーフメタル強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果とその伝導物性
- Co_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合におけるインバースTMR効果のバイアス依存性 : 磁気抵抗効果・交換結合
- 23pYB-10 ハーフメタル強磁性体を用いたスピンバルブ型トンネル接合の磁気抵抗効果
- ハーフメタル強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果とその伝導物性