伊藤 顕知 | (株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部
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概要
関連著者
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部
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伊藤 顕知
(株)日立製作所中央研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所基礎研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 基礎研究所
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早川 純
(株)日立製作所基礎研究所
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早川 純
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所
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早川 純
(株)日立製作所 基礎研究所
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早川 純
日立 中研
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早川 純
日立 基礎研
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浅野 秀文
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
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高橋 宏昌
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
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竹村 理一郎
(株)日立製作所中央研究所
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河原 尊之
(株)日立製作所中央研究所
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大野 英男
東北大学電気通信研究所
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高橋 宏昌
(株)日立製作所基礎研究所
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Asano H
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
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Matsui M
Department Of Materials Science And Engineering Nagoya University
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Asano H
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
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Asano H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories:(present Address)nagoya University Department Of Materia
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高橋 宏昌
(株)日立製作所 基礎研究所
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松井 正顕
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
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杉山 幹人
名古屋大学大学院工学研究科
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浅野 秀文
名古屋大学
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松井 正顯
名大工
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大野 英男
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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高橋 宏昌
(株)日立製作所研究開発本部
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大野 英男
東北大学電気通信研究所東北大省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター
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松井 正顕
名古屋大学
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高橋 宏昌
日立製作所ST研究センター
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三浦 勝哉
(株)日立製作所基礎研究所
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池田 正二
東北大学電気通信研究所
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松岡 秀行
(株)日立製作所基礎研究所
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山ノ内 路彦
(株)日立製作所基礎研究所
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小埜 和夫
(株)日立製作所中央研究所
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池田 正二
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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三浦 勝哉
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設:日立製作所基礎研究所
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小埜 和夫
(株)日立製作所 中央研究所
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松岡 秀行
(株)日立製作所中央研究所
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佐々木 龍太郎
東北大学電気通信研究所
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石垣 隆士
(株)日立製作所中央研究所
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来田 歩
名古屋大学大学院工学研究科
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山本 千早人
名古屋大学
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添谷 進
日立製作所中央研究所
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佐々木 龍太郎
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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添谷 進
(株)日立製作所研究開発本部
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來田 歩
名古屋大学大学院工学研究科
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来田 歩
(株)日立基礎研
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山本 千早人
名古屋大学大学院工学研究科
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三浦 勝哉
日立製作所基礎研究所
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大野 英男
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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池田 正二
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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松岡 秀行
日立製作所基礎研究所
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市原 貴幸
日立製作所中央研究所
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西田 靖孝
日立製作所中央研究所
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三宅 幹夫
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
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三宅 幹夫
School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
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高野 公史
日立製作所中央研究所
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市村 雅彦
日立基礎研
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土屋 裕子
(株)日立製作所中央研究所
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三宅 幹夫
School Of Materials Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
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佐久間 昭正
東北大工
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寺西 利治
北陸先端科学技術大学院大学
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清水 多可美
北陸先端科学技術大学院大学
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高野 公史
(株)日立製作所 中央研究所
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荒井 礼子
(株)日立製作所
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寺西 利治
筑波大院数理物理科学研究科化学専攻
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三宅 幹夫
北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科
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川戸 良明
(株)日立製作所
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岡田 智弘
(株)日立製作所
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府山 盛明
(株)日立製作所
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濱川 佳弘
(株)日立製作所
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西田 靖孝
(株)日立製作所
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市原 貴幸
(株)日立製作所
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望月 正文
(株)日立製作所
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松井 正顯
名大
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松崎 望
(株)日立製作所中央研究所
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高野 公史
(株)日立製作所中央研究所
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佐久間 昭正
日立金属(株)磁性材料研究所
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浅野 秀文
名大・工
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早川 純
日立製作所基礎研究所
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川戸 良昭
(株)日立製作所中央研究所
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山本 浩之
(株)日立製作所基礎研究所
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長谷川 晴弘
(株)日立製作所基礎研究所
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長谷川 晴弘
日立製作所基礎研究所
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保坂 純男
(株)日立製作所
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山本 浩之
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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伊藤 顕知
日立
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伊藤 顕知
(株)日立製作所研究開発本部ストレージテクノロジー研究センター
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保坂 純男
日立 中研
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市村 雅彦
東北大金研:日立基礎研
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小原 安弘
名古屋大学大学院工学研究科
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土屋 裕子
(株)日立製作所
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市村 雅彦
(株)日立製作所基礎研究所
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清水 多可美
北陸先端材料科学
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杉山 幹人
名大
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一色 史雄
(株)日立製作所 中央研究所
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佐久間 昭正
日立金属 磁性材研
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松本 潔
(株)日立製作所 ストレージシステム事業部
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高野 公史
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ技術開発本部
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高野 公史
日立
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杉山 幹大
名古屋大学大学院工学研究科
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佐久間 昭正
(株)日立金属
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新谷 俊道
(株)日立製作所 中央研究所
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山本 浩之
(株)日立製作所 基礎研究所
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長谷川 晴弘
(株)日立製作所 基礎研究所
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松崎 望
(株)日立製作所 中央研究所
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望月 正文
(株)日立製作所中央研究所
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三宅 幹夫
北陸先端科学技術大学院大
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三浦 勝哉
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
-
三宅 幹夫
北陸先端科学技術大学院大学
著作論文
- FePtナノ粒子の磁気特性とLB法による単層膜形成(薄膜)
- 垂直記録用単磁極型GMRヘッド
- 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ, VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 双方向ローカルライトドライバ, 1/0平均化リファレンスセル,2T1Rセルレイアウトを用いた32Mb SPRAM(新材料メモリ,メモリ(DRAM, SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- 磁性体メモリ最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM)(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- ハードディスクの高密度化技術 : ハードディスクに限界はあるか
- ハーフメタル薄膜の磁気、伝導特性
- Au膜上のハーフメタルFe_3O_4薄膜の開発とその応用
- 超高密度光記録
- CO_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合のインバースTMRのバイアス依存性
- ハーフメタル強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果とその伝導物性
- Co_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合におけるインバースTMR効果のバイアス依存性 : 磁気抵抗効果・交換結合
- SNOM技術の光記録へ応用
- スピン注入RAM(SPRAM)の動向および多値化技術(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- スピン注入ホール効果の偏光検出器への応用