府山 盛明 | (株)日立製作所
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概要
関連著者
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府山 盛明
(株)日立製作所
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岡田 智弘
(株)日立製作所
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芳田 伸雄
(株)日立製作所中央研究所
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芳田 伸雄
(株)日立製作所 中央研究所
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芳田 伸雄
(株)日立製作所
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川戸 良昭
(株)日立製作所中央研究所
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岡田 泰行
(株)日立製作所研究開発本部
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工藤 一恵
日立製作所中央研究所
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工藤 一恵
(株)日立製作所・中央研究所
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布川 功
(株)日立製作所
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府山 盛明
日立中研
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佐野 雅章
日立中研
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福井 宏
株式会社日立金属磁性材料研究所
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星屋 裕之
(株)日立製作所中央研究所
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中本 一広
(株)日立製作所中央研究所
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川辺 隆
(株)日立製作所ストレージシステム事業部
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江藤 公俊
(株)日立製作所中央研究所
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布川 功
(株)日立製作所中央研究所
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星屋 裕之
(株)日立製作所 中央研究所
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江藤 公俊
(株)日立製作所 中央研究所
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江藤 公俊
日立製作所, ストレージ・テクノロジー研究センタ
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中本 一広
(株)日立製作所・ストレージ・テクノロジー研究センタ
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中本 一広
日立製作所中央研究所
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星野 勝美
日立製作所中央研究所
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川戸 良昭
(株)日立製作所・中央研究所
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荒井 礼子
(株)日立製作所
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濱川 佳弘
(株)日立製作所
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望月 正文
(株)日立製作所
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星野 勝美
日立中研
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星野 勝美
(株)日立製作所中央研究所
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小室 又洋
(株)日立製作所・ストレージシステム事業部
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府山 盛明
日立製作所
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大嶽 一郎
(株)日立製作所中央研究所
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木村 久志
(株)日立製作所
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望月 正文
(株)日立製作所中央研究所
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府山 盛明
日立・中研
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福井 宏
日立・中研
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岡田 泰行
日立製作所
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目黒 賢一
日立中研
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渡辺 克朗
(株)日立製作所中央研究所
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木村 久志
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
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川邊 隆
日立中研
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丸山 洋治
(株)日立製作所・中央研究所
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岡田 智弘
日立・中研
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芳田 伸雄
日立・中研
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小室 又洋
日立・中研
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工藤 一恵
日立中研
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渡辺 克朗
(株)日立製作所 中央研究所
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府山 盛明
(株)日立製作所中央研究所
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市原 貴幸
日立製作所中央研究所
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西田 靖孝
日立製作所中央研究所
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星屋 裕之
日立製作所中央研究所
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芳田 伸雄
日立製作所中央研究所
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幡谷 昌彦
日立製作所中央研究所
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成重 眞治
(株)日立製作所中央研究所
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成重 真治
(株)日立製作所ストレージ事業部
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高野 公史
日立製作所中央研究所
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川戸 良昭
日立中研
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荒井 礼子
日立中研
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府山 盛明
日立・中央研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所中央研究所
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丸山 洋治
日立製作所ストレージシステム事業部
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高野 公史
(株)日立製作所 中央研究所
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田所 茂
日立
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田所 茂
株式会社日立製作所中央研究室ストレージシステム事業部
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川戸 良明
(株)日立製作所
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西田 靖孝
(株)日立製作所
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市原 貴幸
(株)日立製作所
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星野 勝美
(株)日立製作所・中央研究所
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佐野 雅章
(株)日立製作所・中央研究所
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高野 公史
(株)日立製作所中央研究所
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小室 又洋
(株)日立製作所
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杉田 愃
東北大学電気通信研究所
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光岡 勝也
日立・ストレージシステム事業部
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今川 尊雄
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ
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伊藤 顕知
日立
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添谷 進
日立製作所中央研究所
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工藤 一恵
(株)日立製作所
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添谷 進
(株)日立製作所研究開発本部
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添谷 進
株式会社日立製作所中央研究室
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沈 麗萍
日立製作所
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木村 久志
日立製作所
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布川 功
日立製作所
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岡田 智弘
日立製作所
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目黒 賢一
(株)日立製作所中央研究所
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福井 宏
(株)日立製作所中央研究所
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杉田 愃
現住所
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川戸 良昭
日立・中研
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幡谷 昌彦
(株)日立製作所 中央研究所
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今川 尊雄
(株)日立製作所ストレージ事業部
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今川 尊雄
日立・ストレージ事業部
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田所 茂
(株)日立製作所ストレージシステム事業部
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光岡 勝也
(株)日立製作所ストレージシステム事業部
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成重 眞治
Data Storage & System Div. Hitachi Ltd.
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渡辺 克郎
(株)日立製作所・中央研究所
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濱川 佳弘
日立中研
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福井 宏
日立中研
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高野 公史
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ技術開発本部
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部
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大嶽 一郎
日立製作所中央研究所
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谷山 彰
日立製作所ストレージ事業部
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大友 茂一
日立製作所ストレージ事業部
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目黒 賢一
(株)日立製作所 中央研究所
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高野 公史
日立
著作論文
- 垂直記録用単磁極型GMRヘッド
- 高抵抗NiFeめっき膜の作製と磁気特性
- FeNiP めっき膜の磁気特性と電気抵抗
- 単磁極ヘッド用FeCo膜及びFeCo/NiCr多層膜の磁気特性
- CrMnPt反強磁性膜を用いたスピンバルブ
- 単磁極ヘッド用Fe-Co膜及びFe-Co/Ni-Cr多層膜の磁気特性
- 記録ヘッドの狭トラック化プロセス技術
- 記録ヘッドの狭トラック化プロセス技術
- RIEを用いた多層レジストフレーム形成法の検討 (磁気ヘッド・磁気記録再生特性)
- イオンミリング法を用いた垂直記録用単磁極ヘッドの作製
- イオンミリング法を用いた垂直記録用単磁極ヘッドの作製
- 電極オーバーラップ型スピンバルブヘッドの電極構造とRIE法による電極加工
- 薄膜ヘッドプロセスへの反応性イオンエッチング法の適用
- 高飽和磁束密度を有するbcc-CoNiFeめっき膜の軟磁気特性 : 磁気ヘッド
- CrMn系反強磁性膜とNiFe膜の交換結合
- 100 Gb/in^2垂直記録向け単磁極/TMRヘッド
- 100Gb/in^2垂直記録向け単磁極/TMRヘッド
- 積層フェリ(Co/Ru/Co)固定層を用いたスピンバルブ膜
- めっき法による磁性膜の磁気特性と電気抵抗
- NiFeMo, NiFeめっき膜の耐熱性及び耐食性
- 高記録磁界・高精度狭トラック幅対応新型記録ヘッド
- 薄膜磁気ヘッド ( ミクロを創る 5.デバイス機能-3)
- 高飽和磁束密度を有するCoNiFeめっき膜の軟磁気特性