100Gb/in^2垂直記録向け単磁極/TMRヘッド
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2002-09-01
著者
-
川戸 良昭
(株)日立製作所・中央研究所
-
府山 盛明
(株)日立製作所
-
望月 正文
(株)日立製作所
-
川戸 良昭
(株)日立製作所中央研究所
-
中本 一広
(株)日立製作所中央研究所
-
芳田 伸雄
(株)日立製作所中央研究所
-
渡辺 克朗
(株)日立製作所中央研究所
-
岡田 泰行
(株)日立製作所研究開発本部
-
渡辺 克郎
(株)日立製作所・中央研究所
-
渡辺 克朗
(株)日立製作所 中央研究所
-
芳田 伸雄
(株)日立製作所
-
中本 一広
(株)日立製作所・ストレージ・テクノロジー研究センタ
-
芳田 伸雄
(株)日立製作所 中央研究所
-
望月 正文
(株)日立製作所中央研究所
関連論文
- カレントスクリーン型CPP-GMRヘッドにおけるスピントルクノイズの形状異方性効果
- CPP-GMRヘッドにおける磁化揺らぎノイズ(垂直磁気記録及び一般)
- 3層の磁性膜を有するスピンバルブヘッドの数値解析
- 3層の磁性膜を有するSVヘッドの数値解析
- NiOを用いたスピンバルブヘッドの再生特性(II)
- NiOを用いたスピンバルブヘッドの再生特性(I)
- 垂直記録用単磁極型GMRヘッド
- 高抵抗NiFeめっき膜の作製と磁気特性
- FeNiP めっき膜の磁気特性と電気抵抗
- NiMn反強磁性膜を用いたスピンバルブ膜
- 単磁極ヘッド用FeCo膜及びFeCo/NiCr多層膜の磁気特性
- CrMnPt反強磁性膜を用いたスピンバルブ
- CIP構造およびCPP構造再生ヘッドの応力解析(磁気記録)
- 40 Gb/in^2を超える面内磁気記録再生特性に関する検討
- 熱アシスト磁気記録における光照射の位置とタイミングの検討
- 熱アシスト磁気記録における光照射の位置とタイミングの検討(シミュレーション及び一般)
- 反強磁性結合を用いた積層バイアスCPP-GMRヘッド(磁気記録)
- 反強磁性結合を用いた積層バイアスCPP-GMRヘッド
- 単磁極ヘッド用Fe-Co膜及びFe-Co/Ni-Cr多層膜の磁気特性
- 高抵抗シールド膜を用いた狭ギャップ再生ヘッド
- CoFe/Al_2O_3グラニュラ膜の磁気,電気特性に及ぼす膜形成条件の影響 : ソフト磁性材料
- 記録ヘッドの狭トラック化プロセス技術
- 垂直記録向け単磁極型GMRヘッドの記録再生特性
- 記録ヘッドの狭トラック化プロセス技術
- RIEを用いた多層レジストフレーム形成法の検討 (磁気ヘッド・磁気記録再生特性)
- RIEを用いた多層レジストフレーム形成法の検討
- イオンミリング法を用いた垂直記録用単磁極ヘッドの作製
- イオンミリング法を用いた垂直記録用単磁極ヘッドの作製
- 電極オーバーラップ型スピンバルブヘッドの電極構造とRIE法による電極加工
- 薄膜ヘッドプロセスへの反応性イオンエッチング法の適用
- 電極オーバーラップ型GMRヘッドの記録再生特性
- 電極オーバーラップ型GMRヘッドの記録再生特性
- 磁気抵抗効果ヘッドの波形変動現象
- 高飽和磁束密度を有するbcc-CoNiFeめっき膜の軟磁気特性 : 磁気ヘッド
- マイクロマグネティックスシミュレーションを用いた磁気記録過程に関する検討
- マイクロマグネティックスシミュレーションを用いた磁気記録過程に関する検討(コンピュータシミュレーション及び一般)
- 高抵抗シールド膜を用いた再生ヘッドのR/W特性
- CoFe/Al_2O_3グラニュラ膜の磁気電気特性に及ぼす膜形成条件の影響
- 高出力MRヘッド用NiFeX3元合金膜の磁気特性
- CrMn系反強磁性膜とNiFe膜の交換結合
- 100 Gb/in^2垂直記録向け単磁極/TMRヘッド
- 100Gb/in^2垂直記録向け単磁極/TMRヘッド
- 静電気放電によるスピンバルブヘッドの劣化
- 積層フェリ(Co/Ru/Co)固定層を用いたスピンバルブ膜
- 積層フェリ固定層を用いたSVヘッドの数値解析
- 固定層にCo/Ru/Co積層膜を用いたスピンバルブ膜
- 電極オーバーラップ型スピンバルブヘッドの数値解析 (磁気ヘッド・磁気記録再生特性)
- MRヘッドの波形不安定性と磁区構造 (磁気ヘッド・磁気記録再生特性)
- MRヘッド出力のセンス電流に対するヒステリシス(II)
- MRヘッド出力のセンス電流に対するヒステリシス(I)
- 電極オーバーラップ型スピンバルブヘッドの数値解析
- めっき法による磁性膜の磁気特性と電気抵抗
- サーマルダメージフリーTMRヘッド
- サーマルダメージフリーTMRヘッド
- NiFeMo, NiFeめっき膜の耐熱性及び耐食性
- Ta/NiFe膜の磁歪の膜厚依存性と界面への中間層挿入効果
- Ta/NiFe膜の磁歪の膜厚依存性と界面への挿入効果
- 高記録磁界・高精度狭トラック幅対応新型記録ヘッド
- 垂直磁気記録ヘッドの現状と課題
- 薄膜磁気ヘッド ( ミクロを創る 5.デバイス機能-3)
- 高飽和磁束密度を有するCoNiFeめっき膜の軟磁気特性
- 垂直磁気記録における磁化反転幅, NLTSの解析モデル