渡辺 克朗 | (株)日立製作所 中央研究所
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概要
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渡辺 克朗
(株)日立製作所 中央研究所
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渡辺 克朗
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著作論文
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- 高抵抗シールド膜を用いた狭ギャップ再生ヘッド
- CoFe/Al_2O_3グラニュラ膜の磁気,電気特性に及ぼす膜形成条件の影響 : ソフト磁性材料
- 高抵抗シールド膜を用いた再生ヘッドのR/W特性
- CoFe/Al_2O_3グラニュラ膜の磁気電気特性に及ぼす膜形成条件の影響
- 100 Gb/in^2垂直記録向け単磁極/TMRヘッド
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- 固定層にCo/Ru/Co積層膜を用いたスピンバルブ膜
- サーマルダメージフリーTMRヘッド
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- Ta/NiFe膜の磁歪の膜厚依存性と界面への中間層挿入効果
- Ta/NiFe膜の磁歪の膜厚依存性と界面への挿入効果