石垣 隆士 | (株)日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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石垣 隆士
(株)日立製作所中央研究所
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杉井 信之
(株)日立製作所中央研究所
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竹村 理一郎
(株)日立製作所中央研究所
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(株)日立製作所中央研究所
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日立製作所中央研究所
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日立製作所中央研究所
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土屋 龍太
(株)日立製作所中央研究所
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森田 祐介
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土屋 龍太
日立製作所
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石垣 隆士
日立製作所
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木村 紳一郎
日立製作所中央研究所
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杉井 信之
日立製作所・中央研究所
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望月 和浩
(株)日立製作所 中央研究所
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中村 徹
法政大学工学部電気電子工学科
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望月 和浩
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土屋 朋信
日立製作所中央研究所
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大野 英男
東北大学電気通信研究所
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土屋 忠厳
日立電線
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日立製作所中央研究所
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中村 徹
法政大学
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日立製作所中央研究所ulsi研究部
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(株)日立製作所中央研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所基礎研究所
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野本 一貴
法政大学
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三島 友義
日立電線株式会社
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三島 友義
日立電線
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部
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中村 徹
法政大学 マイクロ・ナノテクノロジー研究センター
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 基礎研究所
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大野 英男
東北大学電気通信研究所東北大省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター
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野本 一貴
法政大学マイクロナノテクノロジー研究センター
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中村 徹
法政大学工学部
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小埜 和夫
(株)日立製作所 中央研究所
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金田 直樹
日立電線
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畠山 義智
法政大学
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片寄 秀雄
法政大学
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寺野 昭久
日立製作所
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寺野 昭久
株式会社 日立製作所
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土屋 朋信
日立製作所
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望月 和浩
日立製作所
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杉井 信之
(株)日立製作所 中央研究所
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金田 直樹
日立電線(株)技術研究所先端電子材料研究部
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木村 紳一郎
(株)日立製作所中央研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所中央研究所
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一法師 隆志
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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岩松 俊明
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ
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尾田 秀一
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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山岡 雅直
日立製作所・中央研究所
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伊藤 清男
(株)日立製作所中央研究所
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伊藤 清男
株式会社日立製作所中央研究所
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鳥居 和功
日立製作所中央研究所
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鳥居 和功
日立・中研
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山岡 雅直
(株)日立製作所 中央研究所
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土屋 龍太
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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大野 英男
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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岩松 俊明
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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山岡 雅直
日立製作所中央研究所
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山岡 雅直
(株)日立製作所中央研究所
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一法師 隆志
(株)ルネサステクノロジ
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鳥居 和功
日立製作所 中央研究所
著作論文
- 招待講演 磁性体メモリ最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM) (シリコン材料・デバイス)
- 低不純物濃度チャネルで統計ゆらぎの小さい薄膜BOX-SOI(SOTB)のV_ばらつき解析(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- ばらつきが小さく, CMOS-LSIの超低消費電力化が可能な薄膜BOX-SOI(SOTB)
- インバータ速度制御、低Vthバラツキを可能にする薄膜BOX-SOIデュアル・バックバイアス制御技術(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 磁性体メモリ最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM)(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 招待講演 スピン注入RAM(SPRAM)の動向および多値化技術 (集積回路)
- 微細CMOSの特性ばらつき問題を解決するドーパントレスFDSOI : SOTB
- スピン注入RAM(SPRAM)の動向および多値化技術(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- フォトン・リサイクリングGaN p^+nダイオード(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
- フォトン・リサイクリングGaN p^+nダイオード(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)