杉井 信之 | (株)日立製作所 中央研究所

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関連著者

• 杉井 信之

  (株)日立製作所中央研究所

• 杉井 信之

  (株)日立製作所 中央研究所

• 平本 俊郎

  東京大学生産技術研究所

• 平本 俊郎

  東京大学生産技術研究所:mirai-selete

• 杉井 信之

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物理電子システム創造専攻

• 土屋 龍太

  日立製作所中央研究所

• 森田 祐介

  日立製作所中央研究所

• 石垣 隆士

  (株)日立製作所中央研究所

• 土屋 龍太

  (株)日立製作所中央研究所

• 森田 祐介

  (株)日立製作所中央研究所

• 大藤 徹

  東京大学生産技術研究所

• Hiramoto Toshiro

  The Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo:vlsi Design And Education Center The Uni

• Hiramoto Toshiro

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Hiramoto Toshiro

  Vlsi Design And Education Center University Of Tokyo

• 木村 紳一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 一法師 隆志

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 岩松 俊明

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ

• 尾田 秀一

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 山岡 雅直

  日立製作所・中央研究所

• 伊藤 清男

  (株)日立製作所中央研究所

• 伊藤 清男

  株式会社日立製作所中央研究所

• 木村 紳一郎

  日立製作所中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所 中央研究所

• 土屋 龍太

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 岩松 俊明

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 兼堀 恵一

  (株)日立製作所

• 山岡 雅直

  日立製作所中央研究所

• 山岡 雅直

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• 兼堀 恵一

  日立中研

• Hiramoto Toshiro

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• 一法師 隆志

  (株)ルネサステクノロジ

• 兼堀 恵一

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著作論文

• ばらつきが小さく, CMOS-LSIの超低消費電力化が可能な薄膜BOX-SOI(SOTB)
• インバータ速度制御、低Vthバラツキを可能にする薄膜BOX-SOIデュアル・バックバイアス制御技術(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 薄膜BOX完全空乏型SOI MOSFETにおけるばらつきの影響(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 薄膜BOX完全空乏型SOI MOSFETにおけるばらつきの影響(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• プラズマCVDによる酸化物超伝導膜の低温成長

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