森田 祐介 | 日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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杉井 信之
(株)日立製作所中央研究所
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土屋 龍太
日立製作所中央研究所
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森田 祐介
日立製作所中央研究所
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石垣 隆士
(株)日立製作所中央研究所
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土屋 龍太
(株)日立製作所中央研究所
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森田 祐介
(株)日立製作所中央研究所
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木村 紳一郎
日立製作所中央研究所
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杉井 信之
日立製作所・中央研究所
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石垣 隆士
日立製作所中央研究所
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吉元 広行
日立製作所中央研究所
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木村 紳一郎
日立製作所中央研究所ulsi研究部
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土屋 龍太
日立製作所
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石垣 隆士
日立製作所
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杉井 信之
(株)日立製作所 中央研究所
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木村 紳一郎
(株)日立製作所中央研究所
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一法師 隆志
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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岩松 俊明
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ
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尾田 秀一
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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山岡 雅直
日立製作所・中央研究所
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伊藤 清男
(株)日立製作所中央研究所
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伊藤 清男
株式会社日立製作所中央研究所
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鳥居 和功
日立製作所中央研究所
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鳥居 和功
日立・中研
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山岡 雅直
(株)日立製作所 中央研究所
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土屋 龍太
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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岩松 俊明
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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山岡 雅直
日立製作所中央研究所
-
山岡 雅直
(株)日立製作所中央研究所
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一法師 隆志
(株)ルネサステクノロジ
-
鳥居 和功
日立製作所 中央研究所
著作論文
- 低不純物濃度チャネルで統計ゆらぎの小さい薄膜BOX-SOI(SOTB)のV_ばらつき解析(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- ばらつきが小さく, CMOS-LSIの超低消費電力化が可能な薄膜BOX-SOI(SOTB)
- インバータ速度制御、低Vthバラツキを可能にする薄膜BOX-SOIデュアル・バックバイアス制御技術(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 微細CMOSの特性ばらつき問題を解決するドーパントレスFDSOI : SOTB