伊藤 顕知 | (株)日立製作所基礎研究所
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概要
関連著者
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伊藤 顕知
(株)日立製作所基礎研究所
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 基礎研究所
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早川 純
(株)日立製作所基礎研究所
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早川 純
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所
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早川 純
日立 中研
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早川 純
日立 基礎研
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伊藤 顕知
(株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部
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高橋 宏昌
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
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伊藤 顕知
(株)日立製作所中央研究所
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高橋 宏昌
(株)日立製作所基礎研究所
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早川 純
(株)日立製作所 基礎研究所
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市村 雅彦
日立基礎研
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大野 英男
東北大学電気通信研究所
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高橋 宏昌
(株)日立製作所研究開発本部
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市村 雅彦
東北大金研:日立基礎研
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高橋 宏昌
日立製作所ST研究センター
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浅野 秀文
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
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竹村 理一郎
(株)日立製作所中央研究所
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河原 尊之
(株)日立製作所中央研究所
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Asano H
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
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Matsui M
Department Of Materials Science And Engineering Nagoya University
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Asano H
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
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Asano H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories:(present Address)nagoya University Department Of Materia
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大野 英男
東北大学電気通信研究所東北大省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター
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早川 純
日立中研
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池田 正二
東北大学電気通信研究所
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大野 英男
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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池田 正二
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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高橋 宏昌
(株)日立製作所 基礎研究所
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松井 正顕
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
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杉山 幹人
名古屋大学大学院工学研究科
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小野木 敏之
日立基礎研
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伊藤 顕知
日立中研
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松岡 秀行
(株)日立製作所基礎研究所
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浅野 秀文
名古屋大学
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松井 正顯
名大工
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三浦 勝哉
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設:日立製作所基礎研究所
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大野 英男
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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池田 正二
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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松井 正顕
名古屋大学
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古門 聡士
日立中研
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三浦 勝哉
(株)日立製作所基礎研究所
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山ノ内 路彦
(株)日立製作所基礎研究所
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早川 純
日立製作所基礎研究所
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小埜 和夫
(株)日立製作所中央研究所
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古門 聡士
静大工
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三浦 勝哉
日立製作所基礎研究所
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松岡 秀行
日立製作所基礎研究所
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小埜 和夫
(株)日立製作所 中央研究所
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松岡 秀行
(株)日立製作所中央研究所
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佐久間 昭正
東北大工
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佐々木 龍太郎
東北大学電気通信研究所
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佐久間 昭正
日立金属(株)磁性材料研究所
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来田 歩
名古屋大学大学院工学研究科
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山本 千早人
名古屋大学
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添谷 進
日立製作所中央研究所
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佐々木 龍太郎
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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來田 歩
名古屋大学大学院工学研究科
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来田 歩
(株)日立基礎研
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山本 千早人
名古屋大学大学院工学研究科
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佐久間 昭正
日立金属 磁性材研
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高橋 宏昌
日立製作所基礎研究所
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鈴木 良夫
日立中研
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佐久間 昭正
日立金属
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石垣 隆士
(株)日立製作所中央研究所
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浅野 秀文
名大・工
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早川 純
日立製作所 基礎研究所
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鈴木 良夫
日立
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伊藤 顕知
日立製作所生産技術研究所
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添谷 進
(株)日立製作所研究開発本部
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杉山 幹人
名大
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大野 英男
東北大通研
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平家 誠嗣
日立基礎研
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橋詰 富博
日立基礎研
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平家 誠嗣
株式会社日立製作所基礎研究所
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橋詰 富博
東北大WPI-AIMR
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松井 正顕
名大工
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河原 尊之
日立製作所・中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所 中央研究所
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李 永〓
東北大学電気通信研究所
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伊藤 顕知
日立ヨーロッパ社日立ケンブリッジ研究所
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目黒 敏靖
東北大学電気通信研究所
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松倉 文[ひろ]
東北大学電気通信研究所
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松井 正顯
名大
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松崎 望
(株)日立製作所中央研究所
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山本 浩之
(株)日立製作所基礎研究所
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長谷川 晴弘
(株)日立製作所基礎研究所
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長谷川 晴弘
日立製作所基礎研究所
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藤森 正成
日立中研
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藤森 正成
日立基礎研
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早川 純
日立基礎研
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高橋 宏昌
日立基礎研
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伊藤 顕知
日立ケンブリッジ研究所
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池田 正二
東北大通研
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山本 浩之
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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松倉 文礼
東北大学電気通信研究所附属ナノ・スピン実験施設
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伊藤 顕知
日立
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松岡 秀行
日立製作所中央研究所
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小原 安弘
名古屋大学大学院工学研究科
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松倉 文
東北大学電気通信研究所附属ナノ・スピン実験施設
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市村 雅彦
(株)日立製作所基礎研究所
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松倉 文〓
東北大学電気通信研究所 超高密度・高速知能システム実験施設
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李 永〓
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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目黒 敏靖
東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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松井 正顕
名大 工
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松倉 文
東北大学 電気通信研究所
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伊籐 顕知
日立中研
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小埜 和夫
日立製作所中央研究所
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竹村 理一郎
日立製作所中央研究所
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山ノ内 路彦
日立製作所基礎研究所
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杉山 幹大
名古屋大学大学院工学研究科
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佐久間 昭正
(株)日立金属
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山本 浩之
(株)日立製作所 基礎研究所
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長谷川 晴弘
(株)日立製作所 基礎研究所
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松崎 望
(株)日立製作所 中央研究所
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平家 誠嗣
日立中研
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三浦 勝哉
(株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
著作論文
- 18PWA-3 強磁性トンネル接合系の磁気抵抗効果 : 絶縁層の及ぼす影響
- Co/Al-oxide/Coのトンネル磁気抵抗効果の理論
- 双方向電流書換方式、平行化方向読出し方式を用いた2Mb-SPRAM (SPin-transfer torque RAM)(新メモリ技術とシステムLSI)
- 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ, VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 双方向ローカルライトドライバ, 1/0平均化リファレンスセル,2T1Rセルレイアウトを用いた32Mb SPRAM(新材料メモリ,メモリ(DRAM, SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- 交換バイアス型スピンバルブ素子のスピントルク磁化反転
- 磁性体メモリ最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM)(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- ハーフメタル薄膜の磁気、伝導特性
- Au膜上のハーフメタルFe_3O_4薄膜の開発とその応用
- ハーフメタルFe_3O_4膜の開発と応用 : ハーフメタル適用GMR
- 17pYH-2 CrAS/GaAsの電子状態 : バンド計算
- 23pYB-4 CO/Al_2O_3/Coの磁気抵抗効果に関する理論的研究
- 23pYB-3 Co/Al_2O_3/Coの界面電子状態 : バンド計算
- 高読出しディスターブ耐性と長リテンションを実現する高耐熱スピン注入RAM
- CO_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合のインバースTMRのバイアス依存性
- ハーフメタル強磁性体を用いたスピントンネル素子とその応用
- ハーフメタル強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果とその伝導物性
- Co_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合におけるインバースTMR効果のバイアス依存性 : 磁気抵抗効果・交換結合
- スピン注入RAM(SPRAM)の動向および多値化技術(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)