早川 純 | (株)日立製作所基礎研究所

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概要

• 同名の論文著者
• (株)日立製作所基礎研究所の論文著者

関連著者

• 早川 純

  (株)日立製作所基礎研究所

• 早川 純

  (株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所

• Asano H

  Institute Of Materials Science University Of Tsukuba

• Asano H

  Ntt Interdisciplinary Research Laboratories:(present Address)nagoya University Department Of Materia

• 早川 純

  日立 中研

• 早川 純

  日立 基礎研

• 伊藤 顕知

  (株)日立製作所基礎研究所

• 伊藤 顕知

  (株)日立製作所 基礎研究所

• 浅野 秀文

  名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻

• Matsui M

  Department Of Materials Science And Engineering Nagoya University

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所基礎研究所

• Asano H

  Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn

• 早川 純

  (株)日立製作所 基礎研究所

• 高橋 宏昌

  日立製作所ST研究センター

• 松井 正顕

  名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻

• 伊藤 顕知

  (株)日立製作所中央研究所

• 浅野 秀文

  名古屋大学

• 浅野 秀文

  名大・工

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所研究開発本部

• 松井 正顕

  名古屋大学

• 池田 正二

  東北大学電気通信研究所

• 大野 英男

  東北大学電気通信研究所

• 伊藤 顕知

  (株)日立製作所 中央研究所ストレージ研究部

• 杉山 幹人

  名古屋大学大学院工学研究科

• 市村 雅彦

  日立基礎研

• 松井 正顯

  名大工

• 池田 正二

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• 市村 雅彦

  東北大金研:日立基礎研

• 竹村 理一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 河原 尊之

  (株)日立製作所中央研究所

• 松岡 秀行

  (株)日立製作所基礎研究所

• 早川 純

  名大・工

• 松井 正顕

  名大・工

• 大野 英男

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所 基礎研究所

• 池田 正二

  東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設

• 大野 英男

  東北大学電気通信研究所東北大省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター

• 早川 純

  日立中研

• 伊藤 顕知

  日立中研

• 三浦 勝哉

  (株)日立製作所基礎研究所

• 山ノ内 路彦

  (株)日立製作所基礎研究所

• 早川 純

  日立製作所基礎研究所

• 三浦 勝哉

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設:日立製作所基礎研究所

• 大野 英男

  東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設

• 古門 聡士

  日立中研

• 小野木 敏之

  日立基礎研

• 佐々木 龍太郎

  東北大学電気通信研究所

• 古門 聡士

  静大工

• 添谷 進

  日立製作所中央研究所

• 佐々木 龍太郎

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• 三浦 勝哉

  日立製作所基礎研究所

• 松岡 秀行

  日立製作所基礎研究所

• 松岡 秀行

  (株)日立製作所中央研究所

• 高橋 宏昌

  日立製作所基礎研究所

• 佐久間 昭正

  東北大工

• 松井 正顯

  名大

• 佐久間 昭正

  日立金属(株)磁性材料研究所

• 早川 純

  日立製作所 基礎研究所

• 小埜 和夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 来田 歩

  名古屋大学大学院工学研究科

• 山本 千早人

  名古屋大学

• 杉山 幹人

  名大

• 來田 歩

  名古屋大学大学院工学研究科

• 来田 歩

  (株)日立基礎研

• 山本 千早人

  名古屋大学大学院工学研究科

• 佐久間 昭正

  日立金属 磁性材研

• 早川 純

  名古屋大学工学部

• 松井 正顕

  名大工

• 鈴木 良夫

  日立中研

• 佐久間 昭正

  日立金属

• 李 永〓

  東北大学電気通信研究所

• 目黒 敏靖

  東北大学電気通信研究所

• 松崎 望

  (株)日立製作所中央研究所

• 山本 浩之

  (株)日立製作所基礎研究所

• 長谷川 晴弘

  (株)日立製作所基礎研究所

• 鈴木 良夫

  日立

• 早川 純

  日立基礎研

• 松倉 文礼

  東北大学電気通信研究所附属ナノ・スピン実験施設

• 伊藤 顕知

  日立製作所生産技術研究所

• 添谷 進

  (株)日立製作所研究開発本部

• 浅野 秀文

  名大工

• 松倉 文

  東北大学電気通信研究所附属ナノ・スピン実験施設

• 松倉 文〓

  東北大学電気通信研究所 超高密度・高速知能システム実験施設

• 李 永〓

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• 目黒 敏靖

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• 早川 純

  名古屋大・工

• 松井 正顕

  名古屋大・工

• 小埜 和夫

  (株)日立製作所 中央研究所

• 大野 英男

  東北大通研

• 平家 誠嗣

  日立基礎研

• 橋詰 富博

  日立基礎研

• 平家 誠嗣

  株式会社日立製作所基礎研究所

• 橋詰 富博

  東北大WPI-AIMR

• 有田 正志

  北海道大学大学院情報科学研究科

• 河原 尊之

  日立製作所・中央研究所

• 後藤 康

  (株)日立製作所中央研究所

• 後藤 康

  (株)日立製作所 中央研究所

• 伊藤 顕知

  日立ヨーロッパ社日立ケンブリッジ研究所

• 松倉 文[ひろ]

  東北大学電気通信研究所

• 高橋 平七郎

  北大

• 松井 正顯

  名古屋大学大学院工学研究科

• 高橋 平七郎

  北海道大学エネルギー先端工学研究センター

• 長谷川 晴弘

  日立製作所基礎研究所

• 土井 正晶

  東北大工

• 土井 正晶

  名大

• 藤森 正成

  日立中研

• 藤森 正成

  日立基礎研

• 高橋 宏昌

  日立基礎研

• 伊藤 顕知

  日立ケンブリッジ研究所

• 池田 正二

  東北大通研

• 山本 浩之

  (株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• Akinaga Hiroyuki

  Institute Of Materials Science University Of Tsukuba

• 伊藤 顕知

  日立

• 松岡 秀行

  日立製作所中央研究所

• 佐々木 昭

  株式会社日立製作所

• 浜田 弘一

  北大 工

• 浜田 弘一

  北大工

• 岡田 亜紀良

  北大工

• 有田 正志

  北大工

• 佐々木 昭

  北大工

• 早川 純

  名大工

• 高橋 平七郎

  北大エネ先研

• 小原 安弘

  名古屋大学大学院工学研究科

• 松倉 文礼

  東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

• 浅野 秀文

  名古屋大

• 市村 雅彦

  (株)日立製作所基礎研究所

• 高橋 宏昌

  日立ストレージテクノロジーリサーチセンタ

• 添谷 進

  日立ストレージテクノロジーリサーチセンタ

• 松井 正顕

  名大 工

• 松倉 文

  東北大学 電気通信研究所

• 小埜 和夫

  日立製作所中央研究所

• 竹村 理一郎

  日立製作所中央研究所

• 山ノ内 路彦

  日立製作所基礎研究所

• 杉山 幹大

  名古屋大学大学院工学研究科

• 佐久間 昭正

  (株)日立金属

• 大杉 眞弘

  名大

• 山本 浩之

  (株)日立製作所 基礎研究所

• 長谷川 晴弘

  (株)日立製作所 基礎研究所

• 松崎 望

  (株)日立製作所 中央研究所

• 杉山 幹人

  名大工

• 村瀬 慶治

  現日立

• 浅野 秀文

  現日立

• 早川 純

  現日立

• 浅野 秀文

  名古屋大・工

• 平家 誠嗣

  日立中研

• 三浦 勝哉

  (株)日立製作所基礎研究所:東北大学電気通信研究所ナノ・スピン実験施設

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著作論文

• 依頼講演 双方向ローカルライトドライバ,1/0平均化リファレンスセル,2T1Rセルレイアウトを用いた32Mb SPRAM (集積回路)
• 18PWA-3 強磁性トンネル接合系の磁気抵抗効果 : 絶縁層の及ぼす影響
• Co/Al-oxide/Coのトンネル磁気抵抗効果の理論
• 双方向電流書換方式、平行化方向読出し方式を用いた2Mb-SPRAM (SPin-transfer torque RAM)(新メモリ技術とシステムLSI)
• 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 積層フェリ自由層トンネル磁気抵抗効果素子を備えたSPRAMのリードディスターブ耐性と書き込み電流のばらつきの低減(メモリ, VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• La_Ca_Mn_nO_薄膜の磁気的・電気的性質
• 双方向ローカルライトドライバ, 1/0平均化リファレンスセル,2T1Rセルレイアウトを用いた32Mb SPRAM(新材料メモリ,メモリ(DRAM, SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
• 交換バイアス型スピンバルブ素子のスピントルク磁化反転
• スパッタ製膜MgO障壁強磁性トンネル素子の磁気抵抗効果とスピントルク磁化反転
• La-Ca-Mn-O薄膜の微細構造に及ぼす基板の影響
• Fe_3O_4膜の極薄膜化における磁気・電気特性の変化
• ハーフメタル薄膜の磁気、伝導特性
• Au膜上のハーフメタルFe_3O_4薄膜の開発とその応用
• ハーフメタルFe_3O_4膜の開発と応用 : ハーフメタル適用GMR
• 17pYH-2 CrAS/GaAsの電子状態 : バンド計算
• 23pYB-4 CO/Al_2O_3/Coの磁気抵抗効果に関する理論的研究
• 高読出しディスターブ耐性と長リテンションを実現する高耐熱スピン注入RAM
• CO_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合のインバースTMRのバイアス依存性
• ハーフメタル強磁性体を用いたスピントンネル素子とその応用
• ハーフメタル強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果とその伝導物性
• Co_Fe_/SrTiO_3/La_Sr_MnO_3接合におけるインバースTMR効果のバイアス依存性 : 磁気抵抗効果・交換結合
• 23pYB-10 ハーフメタル強磁性体を用いたスピンバルブ型トンネル接合の磁気抵抗効果
• ハーフメタル強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果とその伝導物性
• Mn酸化物トンネル接合の磁気抵抗効果
• 29p-E-2 ペロブスカイト型Mn酸化物薄膜の応力効果
• 26p-YS-3 強磁性トンネル接合Fe, Co/SrTiO_3/La_Ca_MnO_3の作製と磁性及び電気伝導
• La_Ca_Mn_nO_薄膜の応力効果
• La_Ca_Mn_nO_薄膜の磁気的・電気的性質
• 2a-Y-8 La_Ca_Mn_nO_薄膜における磁気的・電気的性質の応力効果
• ペロブスカイト型強磁性体La_Ca_Mn_nO_の磁気・伝導物性
• 6a-YF-12 ペロブスカイト型Mn酸化物薄膜La_Ca_Mn_nO_の磁気的・電気的性質
• 層状構造La_Ca_Mn_2O_7の磁気状態図 (磁性体物理)
• 29p-Q-11 層状ペロブスカイト型Mn酸化物薄膜の磁気抵抗効果
• 層状構造La_Ca_Mn_2O_7の磁気状態図

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