Ni_<79>Fe_<21>超薄膜の飽和磁化と Dead Layer
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概要
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- 2003-09-01
著者
-
高橋 宏昌
日立製作所基礎研究所
-
小林 孝弘
東北工業大学
-
杉田 愃
東北工業大学電子工学科
-
高橋 宏昌
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ
-
杉田 愃
東北工業大学
-
高橋 宏昌
(株)日立製作所基礎研究所
-
佐藤 博之
東北工業大学
-
片田 祐之
東北大学電気通信研究所
-
杉田 恒
東北大学
-
高橋 宏昌
日立製作所ST研究センター
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