大橋 健也 | 日立 日立研

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概要

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関連著者

• 大橋 健也

  日立 日立研

• 大橋 健也

  日立 材料研

• 大橋 健也

  (株)日立製作所日立研究所

• 大橋 健也

  (株)日立製作所 日立研究所

• 三宅 潔

  (株)日立製作所日立研究所

• 三宅 潔

  (株)日立製作所 電力・電機開発本部

• 前田 佳均

  大阪府立大学総合科学部物質科学科

• 伊藤 修

  (株)日立製作所電力システム社エネルギ・環境システム研究所

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所中央研究所

• 峯村 哲郎

  株式会社日立製作所日立研究所

• 大橋 鉄也

  (株)日立製作所日立研究所

• 峯村 哲郎

  (株)日立製作所日立研究所

• 三宅 潔

  日立製作所(株)

• 大橋 健也

  日立製作所(株)

• 大橋 健也

  日立製作所

• 伊藤 修

  (株)日立製作所日立研究所研究員

• 高橋 宏昌

  日立製作所基礎研究所

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ

• 一色 実

  東北大学素材工学研究所

• 石川 幸雄

  東北大学素材工学研究所

• 進藤 大輔

  東北大学素材工学研究所

• 三宅 潔

  埼玉大学大学院

• 梁 俊模

  東北大学素材工学研究所

• 一色 実

  東北大工

• 峰村 哲郎

  日立製作所(株)

• 大橋 健也

  株式会社日立製作所 材料研究所

• 前田 佳均

  大阪府立大学 総合科学部

• 林 聖煥

  東北大学素材工学研究所

• 一色 実

  東北大選研

• 三宅 潔

  株式会社日立製作所日立研究所主任研究員

• 高橋 宏昌

  (株)日立製作所 基礎研究所

• 高橋 宏昌

  日立製作所ST研究センター

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著作論文

• イオンビームデポジション法による 高耐食・高純度鉄薄膜の形成
• (7) イオンビームデポジションによる最近の物質形成研究(主題 : 新しい素材・材料の開発と周辺技術)(素材工学研究所第 2 回研究懇談会)(素材工学研究会記事)
• イオンビ-ムデポジション(IBD)法による高純度金属薄膜作製技術の開発
• イオンビームデポジション (IBD) 法で作製した鉄薄膜の超高圧電子顕微鏡による評価
• β-FeSi_2/n-Siへテロ接合の作製と光電特性
• イオン注入法によって作製したβ-FeSi2:光起電力特性と準安定γ相 (〈特集〉環境半導体)
• 環境半導体・鉄シリサイドの作製 (ポスターセッション特集(1))
• イオンビームデポジション法による高品位金属薄膜の作製
• IBD法によりさびない鉄薄膜を実現
• イオンビ-ム技術による高純度金属新素材への挑戦

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