溶液処理におけるシリコン表面上の酸化物生成機構と残留酸化物がシリサイド化反応に与える効果
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概要
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希フッ酸溶液処理は、シリコン上に金属接合を形成する場合の最も典型的な前処理プロセスである。金属接合を形成するシリコン表面は、イオン注入等で高濃度に不純物が導入されており理想的な結晶表面とはほど遠い。本稿では、現実の表面処理で必要とされる表面荒れや欠陥に起因した酸化物の残留機構を考察する。更に、コバルトシリサイドプロセスにおいて、シリコン上の残留酸化物がシリサイド膜の物性に如何に影響するか示し、溶液前処理によるシリサイドプロセスの制御法について述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-10-13
著者
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